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龍圖騰網恭喜上海應用技術大學申請的專利一種X射線光束互相干函數(shù)測量裝置與探測方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115356764B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202210862635.7，技術領域涉及：G01T1/29；該發(fā)明授權一種X射線光束互相干函數(shù)測量裝置與探測方法是由胡靖偉;張睿;楊福桂;李志宏設計研發(fā)完成，并于2022-07-21向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種X射線光束互相干函數(shù)測量裝置與探測方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種X射線光束互相干函數(shù)測量裝置與探測方法，用雙晶單色器對入射寬光譜帶寬的白光X射線單色化；用X射線空間調制器對電控空間調制X射線波前；用晶體濾除不滿足布拉格衍射條件的光束，以形成雙縫效果；用聚焦光學元件在焦平面上形成楊氏干涉條紋，并用圖像探測器采集干涉條紋的強度分布；數(shù)據采集?處理系統(tǒng)控制數(shù)據采集與雙縫的掃描同步，即實現(xiàn)順序掃描測量，并反通過測量數(shù)據反解出干涉條紋的對比度和相位，給出完整的光束相干性信息。解決了互相干函數(shù)測量快速動態(tài)測量的問題。

本發(fā)明授權一種X射線光束互相干函數(shù)測量裝置與探測方法在權利要求書中公布了：1.一種X射線光束互相干函數(shù)測量裝置，其特征在于，依次包括雙晶單色器、兩個調制器、聚焦光學元件、圖像探測器和數(shù)據采集-處理系統(tǒng)，白光平行入射雙晶單色器，雙晶單色器對入射寬光譜帶寬的白光X射線單色化后出射，出射的單色光進入可控時序調制狹縫的第一調制器，第一調制器出射調制光進入第二調制器，經過第二調制器濾除不滿足布拉格衍射條件的光束，再進入聚焦光學元件聚焦，在焦平面上形成楊氏雙縫干涉條紋，圖像探測器采集干涉條紋的強度分布送數(shù)據采集-處理系統(tǒng)，數(shù)據采集-處理系統(tǒng)控制掃描測量并處理采集數(shù)據獲得測量數(shù)據；所述第一調制器為X射線空間調制器，由主動變形反射鏡構成，主動變形反射鏡的實現(xiàn)形式包括兩類，第一類包括反射層和基底兩層，在反射層和基底兩層中間設有用于電控的加熱電極，加熱電極由數(shù)組平行陣列排列的電阻帶構成，每條電阻帶兩端為電極，選擇電阻帶通電對對應的反射層區(qū)域進行加熱，反射層以形成不同的區(qū)域變形；第二類，由多個陣列排列的壓電陶瓷單元與X射線反射鏡粘結而成，時序改變壓電陶瓷單元上加載電壓，利用壓電效應，產生反射鏡的區(qū)域變形。

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