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龍圖騰網(wǎng)恭喜圓益IPS股份有限公司申請的專利基板處理裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113539881B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-20發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202010994498.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)基板處理裝置是由李承燮;孫貞琳;金周浩;樸坰;金周燮設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-09-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本基板處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及基板處理裝置，更詳細地說涉及通過高壓及低壓執(zhí)行基板處理的基板處理裝置。本發(fā)明公開了一種基板處理裝置，包括：外管，在內(nèi)部形成有保護空間，并且在下部形成第一入口；內(nèi)管，在內(nèi)部形成有反應空間，并且在下部形成第二入口，而且一部分被容納于所述外管，形成所述第二入口的部分向所述外管下方凸出。

本發(fā)明授權(quán)基板處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，包括：外管，在內(nèi)部形成有保護空間，并且在下部形成第一入口；內(nèi)管，在內(nèi)部形成有獨立于所述保護空間的反應空間，并且在下部形成第二入口，而且一部分被容納于所述外管，形成所述第二入口的部分向所述外管下方凸出；歧管組件，間隔支撐上部的所述外管和下部的所述內(nèi)管；蓋凸緣，密封所述歧管組件的下部；其中，所述歧管組件包括：外部歧管，支撐所述外管下端部，并且形成與所述保護空間連接的第一內(nèi)部空間；內(nèi)部歧管，上端通過結(jié)合部件與所述外部歧管的下端緊固結(jié)合，以支撐所述內(nèi)管的下端部，并且與所述反應空間連接而形成獨立于所述第一內(nèi)部空間的第二內(nèi)部空間，其中，所述外部歧管形成有供應惰性氣體的外部氣體供氣口和排放惰性氣體的外部氣體排氣口。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人圓益IPS股份有限公司，其通訊地址為：韓國京畿道平澤市振威面振威產(chǎn)團路75；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。