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龍圖騰網恭喜中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所申請的專利太赫茲自由曲面離軸三反準光系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118859498B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-20發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202410999324.4，技術領域涉及：G02B17/06；該發明授權太赫茲自由曲面離軸三反準光系統是由王懋;秦華;劉德峰;郝叢靜設計研發完成，并于2024-07-24向國家知識產權局提交的專利申請。

本太赫茲自由曲面離軸三反準光系統在說明書摘要公布了：本發明公開了一種太赫茲自由曲面離軸三反準光系統。該系統采用自主研發的自由曲面設計方法，通過采用自由曲面設計技術設計的XY多項式面型，使得該系統無中心遮攔，無色差，工作波段長，實現大視場低畸變的成像效果，更好地實現系統的像差的矯正和平衡有效消除像差，提高了系統的靈敏度和成像質量。采用離軸三反光學設計方案，減小系統體積和重量，提高有效孔徑。適用于焦平面陣列探測器，可以提高太赫茲成像系統的靈敏度和成像質量。本發明具有廣闊的應用前景，可用于航天航空、電子產品、食品安全、生物醫學等領域的無損檢測。

本發明授權太赫茲自由曲面離軸三反準光系統在權利要求書中公布了：1.一種太赫茲自由曲面離軸三反準光系統，其特征在于，包括：第一反射鏡，設置在光線的出射光路上，用于將所述光線反射，形成第一反射光束；第二反射鏡，設置在所述第一反射鏡的反射光路上，用于將所述第一反射光束二次反射，形成第二反射光束；第三反射鏡，設置在所述第二反射鏡的反射光路上，用于將所述第二反射光束再次反射，形成第三反射光束；探測器，位于所述第三反射鏡的反射光路上且位于所述第三反射光束的會聚光斑處，用于接收所述第三反射光束；所述第一反射鏡、第二反射鏡和第三反射鏡的反射面均采用XY多項式面型，且XY多項式為X的偶次多項式，X的最高次數為6次；建立全局三維直角坐標系X，Y，Z，所述第一反射鏡、第二反射鏡和第三反射鏡的中心分別位于坐標系X，Y，Z中的點O1、點O2和點O3處，點O1、點O2和點O3兩兩之間的距離滿足以下關系：d23＝d12＝d13；其中，d12為點O1和點O2之間的距離，d23為點O2和點O3之間的距離，d13為點O1和點O3之間的距離；所述太赫茲自由曲面離軸三反準光系統的通光孔徑為60nm-160mm，F數為1-1.3，視場角范圍為±4.2°×±4.2°～±4.6°×±4.6°。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所，其通訊地址為：215123 江蘇省蘇州市工業園區若水路398號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。