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龍圖騰網(wǎng)獲悉江蘇康輝新材料科技有限公司申請的專利納米磨砂劑及其制備方法、組合物和在類紙膜中的應(yīng)用獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN119242265B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-20發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202411775207.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C09K3/14；該發(fā)明授權(quán)納米磨砂劑及其制備方法、組合物和在類紙膜中的應(yīng)用是由劉蘇;康愛旗;接道良;左黎明設(shè)計研發(fā)完成，并于2024-12-05向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本納米磨砂劑及其制備方法、組合物和在類紙膜中的應(yīng)用在說明書摘要公布了：本發(fā)明屬于電子材料技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種納米磨砂劑及其制備方法、組合物和在類紙膜中的應(yīng)用。納米磨砂劑由中空TPU纖維顆粒以及原位沉積生長在其外壁的二氧化硅層組成；納米磨砂劑組合物由不同粒徑范圍的納米磨砂劑按照特定的比例組成；制備納米磨砂劑的方法包括制備中空TPU纖維顆粒、配制含硅源的溶液A、將中空TPU纖維顆粒加入溶液A反應(yīng)后進(jìn)行后處理的步驟；應(yīng)用即將該納米磨砂劑或該納米磨砂劑組合物制備成擠出型高耐磨高回彈類紙膜。本發(fā)明實現(xiàn)了類紙膜在阻尼感、觸感、耐磨以及光學(xué)性能四個方面的全面提升。

本發(fā)明授權(quán)納米磨砂劑及其制備方法、組合物和在類紙膜中的應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了：1.一種擠出型高耐磨高回彈類紙膜，其特征在于，包括自上而下依次設(shè)置的上表層、基礎(chǔ)層和下表層；上表層和下表層中含有添加劑，添加劑為納米磨砂劑或納米磨砂劑組合物；納米磨砂劑由中空TPU纖維顆粒以及原位沉積生長在其外壁的二氧化硅層組成；納米磨砂劑組合物由30-50wt％的納米磨砂劑Ⅰ、20-25wt％的納米磨砂劑Ⅱ、15-20wt％的納米磨砂劑Ⅲ、10-15wt％的納米磨砂劑Ⅳ和5-10wt％的納米磨砂劑Ⅴ組成；納米磨砂劑Ⅰ的粒徑小于0.5μm；納米磨砂劑Ⅰ中，中空TPU纖維顆粒的內(nèi)徑為0.1-0.2μm且壁厚為0.05μm，二氧化硅層的厚度為0.05-0.1μm；納米磨砂劑Ⅱ的粒徑大于等于0.5μm同時小于1μm；納米磨砂劑Ⅱ中，中空TPU纖維顆粒的內(nèi)徑為0.2-0.4μm且壁厚為0.1μm，二氧化硅層的厚度為0.1-0.2μm；納米磨砂劑Ⅲ的粒徑大于等于1μm同時小于10μm；納米磨砂劑Ⅲ中，中空TPU纖維顆粒的內(nèi)徑為0.4-4μm且壁厚為0.1-1μm，二氧化硅層的厚度為0.2-2μm；納米磨砂劑Ⅳ的粒徑大于等于10μm同時小于20μm；納米磨砂劑Ⅳ中，中空TPU纖維顆粒的內(nèi)徑為3-6μm且壁厚為1.5-3μm，二氧化硅層的厚度為2-4μm；納米磨砂劑Ⅴ的粒徑大于等于20μm同時小于等于25μm；納米磨砂劑Ⅴ中，中空TPU纖維顆粒的內(nèi)徑為6-7μm且壁厚為3-4μm，二氧化硅層的厚度為4-5μm。

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