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龍圖騰網恭喜江蘇康輝新材料科技有限公司申請的專利納米磨砂劑及其制備方法、組合物和在類紙膜中的應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119242265B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-20發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411775207.6，技術領域涉及：C09K3/14；該發明授權納米磨砂劑及其制備方法、組合物和在類紙膜中的應用是由劉蘇;康愛旗;接道良;左黎明設計研發完成，并于2024-12-05向國家知識產權局提交的專利申請。

本納米磨砂劑及其制備方法、組合物和在類紙膜中的應用在說明書摘要公布了：本發明屬于電子材料技術領域，涉及一種納米磨砂劑及其制備方法、組合物和在類紙膜中的應用。納米磨砂劑由中空TPU纖維顆粒以及原位沉積生長在其外壁的二氧化硅層組成；納米磨砂劑組合物由不同粒徑范圍的納米磨砂劑按照特定的比例組成；制備納米磨砂劑的方法包括制備中空TPU纖維顆粒、配制含硅源的溶液A、將中空TPU纖維顆粒加入溶液A反應后進行后處理的步驟；應用即將該納米磨砂劑或該納米磨砂劑組合物制備成擠出型高耐磨高回彈類紙膜。本發明實現了類紙膜在阻尼感、觸感、耐磨以及光學性能四個方面的全面提升。

本發明授權納米磨砂劑及其制備方法、組合物和在類紙膜中的應用在權利要求書中公布了：1.一種擠出型高耐磨高回彈類紙膜，其特征在于，包括自上而下依次設置的上表層、基礎層和下表層；上表層和下表層中含有添加劑，添加劑為納米磨砂劑或納米磨砂劑組合物；納米磨砂劑由中空TPU纖維顆粒以及原位沉積生長在其外壁的二氧化硅層組成；納米磨砂劑組合物由30-50wt％的納米磨砂劑Ⅰ、20-25wt％的納米磨砂劑Ⅱ、15-20wt％的納米磨砂劑Ⅲ、10-15wt％的納米磨砂劑Ⅳ和5-10wt％的納米磨砂劑Ⅴ組成；納米磨砂劑Ⅰ的粒徑小于0.5μm；納米磨砂劑Ⅰ中，中空TPU纖維顆粒的內徑為0.1-0.2μm且壁厚為0.05μm，二氧化硅層的厚度為0.05-0.1μm；納米磨砂劑Ⅱ的粒徑大于等于0.5μm同時小于1μm；納米磨砂劑Ⅱ中，中空TPU纖維顆粒的內徑為0.2-0.4μm且壁厚為0.1μm，二氧化硅層的厚度為0.1-0.2μm；納米磨砂劑Ⅲ的粒徑大于等于1μm同時小于10μm；納米磨砂劑Ⅲ中，中空TPU纖維顆粒的內徑為0.4-4μm且壁厚為0.1-1μm，二氧化硅層的厚度為0.2-2μm；納米磨砂劑Ⅳ的粒徑大于等于10μm同時小于20μm；納米磨砂劑Ⅳ中，中空TPU纖維顆粒的內徑為3-6μm且壁厚為1.5-3μm，二氧化硅層的厚度為2-4μm；納米磨砂劑Ⅴ的粒徑大于等于20μm同時小于等于25μm；納米磨砂劑Ⅴ中，中空TPU纖維顆粒的內徑為6-7μm且壁厚為3-4μm，二氧化硅層的厚度為4-5μm。

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