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龍圖騰網恭喜科磊股份有限公司申請的專利使用疊加目標的場對場校正獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113167745B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980079626.7，技術領域涉及：G01N21/956；該發明授權使用疊加目標的場對場校正是由E·萊欣斯凱-阿特休勒;I·塔爾西斯-沙皮爾;M·吉諾烏克;D·沙皮羅烏;G·本多夫;R·弗克維奇;C·斯蒂利設計研發完成，并于2019-12-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本使用疊加目標的場對場校正在說明書摘要公布了：一種計量系統可包含耦合到計量工具的控制器。所述控制器可接收計量目標設計，所述計量目標設計包含通過利用光刻工具在樣本上曝光出第一曝光場而形成的至少一第一特征及通過利用所述光刻工具在所述樣本上曝光出第二曝光場而形成的至少一第二特征，其中所述第二曝光場與所述第一曝光場在所述樣本上計量目標的位置處重疊。所述控制器可進一步接收與根據所述計量目標設計制作的所述計量目標相關聯的計量數據，基于所述計量數據確定在所述計量目標的制作期間的一或多個制作誤差，并基于所述一或多個制作誤差產生校正項以在一或多個后續光刻步驟中調整所述光刻工具的一或多個制作參數。

本發明授權使用疊加目標的場對場校正在權利要求書中公布了：1.一種計量系統，其包括：控制器，其通信耦合到計量工具，所述控制器包含一或多個處理器，所述一或多個處理器經配置以執行使所述一或多個處理器進行以下操作的程序指令：接收計量目標設計，其中所述計量目標設計包含通過利用光刻工具在樣本的第一層上曝光出第一曝光場而形成的至少一第一特征，其中所述計量目標設計進一步包含通過利用所述光刻工具在所述樣本的不同于所述第一層的第二層上曝光出第二曝光場而形成的至少一第二特征，其中所述第二曝光場與所述第一曝光場部分地重疊，其中所述第二曝光場與所述第一曝光場在所述樣本上計量目標的位置處重疊；接收與根據所述計量目標設計制作的所述計量目標相關聯的計量數據；基于所述計量數據確定在所述計量目標的制作期間的一或多個制作誤差；及基于所述一或多個制作誤差產生一或多個校正項以在一或多個后續光刻步驟中調整所述光刻工具的一或多個制作參數。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人科磊股份有限公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。