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恭喜東京毅力科創株式會社荒金俊行獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜東京毅力科創株式會社申請的專利除電方法和基片處理裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN111863691B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010299562.6,技術領域涉及:H01L21/683;該發明授權除電方法和基片處理裝置是由荒金俊行;綱本哲;大﨑良規;佐藤雅紀設計研發完成,并于2020-04-16向國家知識產權局提交的專利申請。

除電方法和基片處理裝置在說明書摘要公布了:本發明提供一種除電方法和基片處理裝置。除電方法包括:在靜電吸盤上載置有基片的狀態下向處理容器內導入氣體的步驟;一邊對所述靜電吸盤的吸附電極施加直流電壓一邊增大該直流電壓的絕對值,直至開始基于所述氣體的放電的步驟;在基于所述氣體的放電開始后,施加使所述基片的電荷量達到成為0或者接近0的電荷中和區域的所述直流電壓的絕對值的步驟;和施加所述直流電壓的絕對值直至達到所述電荷中和區域之后,使所述基片從所述靜電吸盤脫離的步驟。本發明能夠對基片的殘留吸附進行充分的除電。

本發明授權除電方法和基片處理裝置在權利要求書中公布了:1.一種除電方法,其特征在于,具有:步驟a,在靜電吸盤上載置有基片的情況下向處理容器內導入氣體;步驟b,一邊對所述靜電吸盤的吸附電極施加直流電壓一邊增大該直流電壓的絕對值,直至開始基于所述氣體的放電;步驟c,在基于所述氣體的放電開始之后,施加使所述基片的電荷量達到成為0的電荷中和區域的所述直流電壓的絕對值;步驟d,施加所述直流電壓的絕對值直至達到所述電荷中和區域之后,使所述基片從所述靜電吸盤脫離;步驟e,計算所述基片的殘留電荷量;和步驟f,基于計算出的所述殘留電荷量,計算使所述基片的電荷量達到所述電荷中和區域的所述直流電壓的絕對值,在步驟c中,施加步驟f中計算出的所述直流電壓的絕對值,在步驟e中,通過使推升所述基片用的升降銷在上下方向上移動來使所述基片振動,并基于此時在所述吸附電極中流動的感應電流來計算所述殘留電荷量。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社,其通訊地址為:日本東京都;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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