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龍圖騰網(wǎng)恭喜3M創(chuàng)新有限公司申請(qǐng)的專利卷對(duì)卷氣相沉積設(shè)備和方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115702258B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202180041652.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C16/452；該發(fā)明授權(quán)卷對(duì)卷氣相沉積設(shè)備和方法是由賽德利克·貝多亞;布蘭登·R·皮特茲;塔里斯·A·斯韋巴克;約瑟夫·C·斯帕尼奧拉設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-05-04向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本卷對(duì)卷氣相沉積設(shè)備和方法在說(shuō)明書摘要公布了：本公開涉及一種系統(tǒng)。該系統(tǒng)可以包括第一區(qū)，第一前體被引入到該第一區(qū)中；第二區(qū)，第二前體被引入到該第二區(qū)中；第三區(qū)，該第三區(qū)位于第一區(qū)與第二區(qū)之間，并且在第三區(qū)中產(chǎn)生反應(yīng)性物質(zhì)；第四區(qū)，該第四區(qū)位于第一區(qū)與第三區(qū)之間；第五區(qū)，該第五區(qū)位于第二區(qū)與第三區(qū)之間；其中將工藝氣體引入到第四區(qū)和第五區(qū)中；其中反應(yīng)性物質(zhì)和第一前體在第四區(qū)中混合，并且反應(yīng)性物質(zhì)和第二前體在第五區(qū)中混合；和基底輸送機(jī)構(gòu)。

本發(fā)明授權(quán)卷對(duì)卷氣相沉積設(shè)備和方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種卷對(duì)卷氣相沉積系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：第一區(qū)，第一前體被引入到所述第一區(qū)中；第二區(qū)，第二前體被引入到所述第二區(qū)中；第三區(qū)，所述第三區(qū)位于所述第一區(qū)與所述第二區(qū)之間，并且在所述第三區(qū)中產(chǎn)生反應(yīng)性物質(zhì)；第四區(qū)，所述第四區(qū)位于所述第一區(qū)與所述第三區(qū)之間；第五區(qū)，所述第五區(qū)位于所述第二區(qū)與所述第三區(qū)之間；其中所述第一區(qū)、所述第二區(qū)和所述第三區(qū)是由外部反應(yīng)室殼體界定的；其中將工藝氣體引入到所述第四區(qū)和所述第五區(qū)中；其中所述反應(yīng)性物質(zhì)和所述第一前體在所述第四區(qū)中混合，并且所述反應(yīng)性物質(zhì)和所述第二前體在所述第五區(qū)中混合；和基底輸送機(jī)構(gòu)。

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