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龍圖騰網(wǎng)恭喜拓荊科技股份有限公司申請的專利一種氣體切換系統(tǒng)及其相關(guān)半導(dǎo)體制程方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116288262B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111531442.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C16/455；該發(fā)明授權(quán)一種氣體切換系統(tǒng)及其相關(guān)半導(dǎo)體制程方法是由野沢俊久;邱大益;李晶;關(guān)帥設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-12-14向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種氣體切換系統(tǒng)及其相關(guān)半導(dǎo)體制程方法在說明書摘要公布了：本揭露涉及一種氣體切換系統(tǒng)及其相關(guān)半導(dǎo)體制程方法。在本揭露的一實施例中，一種氣體切換系統(tǒng)，其適用于向半導(dǎo)體制程裝置提供氣體切換功能，所述半導(dǎo)體制程裝置至少包含設(shè)置于上游的制程氣體源、設(shè)置于下游的制程腔室以及真空泵，所述氣體切換系統(tǒng)設(shè)置在所述制程氣體源與所述制程腔室之間，其特征在于，所述氣體切換系統(tǒng)包括：實質(zhì)上居中設(shè)置的第一反應(yīng)氣體入口和第二反應(yīng)氣體入口，所述第一反應(yīng)氣體入口和所述第二反應(yīng)氣體入口分別經(jīng)配置以接收來自所述制程氣體源的反應(yīng)氣體；分別設(shè)置于所述第一反應(yīng)氣體入口兩側(cè)的第一閥體單元和第二閥體單元；及分別設(shè)置于所述第二反應(yīng)氣體入口兩側(cè)的第三閥體單元和第四閥體單元。

本發(fā)明授權(quán)一種氣體切換系統(tǒng)及其相關(guān)半導(dǎo)體制程方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種氣體切換系統(tǒng)，其適用于向半導(dǎo)體制程裝置提供氣體切換功能，所述半導(dǎo)體制程裝置至少包含設(shè)置于上游的制程氣體源、設(shè)置于下游的制程腔室以及真空泵，所述氣體切換系統(tǒng)設(shè)置在所述制程氣體源與所述制程腔室之間，其特征在于，所述氣體切換系統(tǒng)包括：第一反應(yīng)氣體入口和第二反應(yīng)氣體入口，所述第一反應(yīng)氣體入口和所述第二反應(yīng)氣體入口分別經(jīng)配置以接收來自所述制程氣體源的反應(yīng)氣體；分別設(shè)置于所述第一反應(yīng)氣體入口兩側(cè)的第一閥體單元和第二閥體單元；及分別設(shè)置于所述第二反應(yīng)氣體入口兩側(cè)的第三閥體單元和第四閥體單元，其中，所述第四閥體單元經(jīng)由通道與所述第二閥體單元相連，且設(shè)置于通往所述第二閥體單元的通道的上游，所述氣體切換系統(tǒng)經(jīng)配置以同時向所述制程腔室輸送所述第一反應(yīng)氣體與所述第二反應(yīng)氣體中的一者以及來自清潔氣體源的清潔氣體。

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