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龍圖騰網(wǎng)恭喜中國人民解放軍空軍工程大學申請的專利納秒脈沖介質(zhì)阻擋放電增壓的陣列等離子體合成射流裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115515289B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202211244113.7，技術領域涉及：H05H1/24；該發(fā)明授權(quán)納秒脈沖介質(zhì)阻擋放電增壓的陣列等離子體合成射流裝置是由宗豪華;梁華;吳云;宋慧敏設計研發(fā)完成，并于2022-10-11向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本納秒脈沖介質(zhì)阻擋放電增壓的陣列等離子體合成射流裝置在說明書摘要公布了：一種納秒脈沖介質(zhì)阻擋放電增壓的陣列等離子體合成射流激勵器，自上而下包括：頂蓋10，高壓電極板20，絕緣介質(zhì)板30和接地金屬板40。還提供一種基于上述激勵器的納秒脈沖介質(zhì)阻擋放電增壓的陣列等離子體合成射流裝置的工作方法，在一個射流周期內(nèi)，完整的工作過程包含三個階段：沖擊增壓階段、陣列射流階段和多孔吸氣復原階段。本發(fā)明陣列激勵器不需要復雜的負載匹配電路設計或供電電源優(yōu)化設計，具有接線簡單、實現(xiàn)成本低、易于進行大規(guī)模擴展、工作頻率高、脈沖重復性好等優(yōu)點。

本發(fā)明授權(quán)納秒脈沖介質(zhì)阻擋放電增壓的陣列等離子體合成射流裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.納秒脈沖介質(zhì)阻擋放電增壓的陣列等離子體合成射流激勵器，其特征在于，包括：頂蓋10，高壓電極板20，絕緣介質(zhì)板30和接地金屬板40；其中頂蓋10為絕緣材料制成的矩形體，上表面為方形；頂蓋10的外輪廓長度和寬度需要根據(jù)實際應用做出適應性設計；頂蓋10內(nèi)部挖空；形成矩形內(nèi)部空腔，下部開放，當與高壓電極板20和絕緣介質(zhì)板30配合在一起后，形成一個半封閉的、偏平的方形等離子體放電腔體，即激勵器腔體105；在頂蓋10的上表面，沿著垂直于壁面方向，自下而上加工若干個收斂型射流孔102，射流孔102上小下大；這些射流孔102排成N×M陣列，作為氣體自上而下流入和自下而上流出激勵器腔體105的喉道；位于頂蓋10上表面的喉道出口101為圓形；位于激勵器腔體105上表面的喉道入口103也為圓形；射流孔中心軸線垂直于頂蓋10上表面，或與頂蓋10的法線呈一定的角度；只要保證射流孔102下部入口面積大于上部出口面積，且自下而上、從入口到出口的截面面積是單調(diào)減小的；電極板20由薄片狀金屬板制成；電極板具有稠密的網(wǎng)孔狀；每個射流孔102的位置對應一個網(wǎng)孔，二者軸線重合；相鄰射流孔的中心間距與相鄰網(wǎng)孔的中心間距相同；最外圈網(wǎng)孔與電極板20的邊緣均保持一定距離；電極板20的長寬尺寸與激勵器腔體105的長寬尺寸基本相同，方便將電極板20自下而上嵌入頂蓋10；絕緣介質(zhì)板30為薄片狀矩形體；絕緣介質(zhì)板30在水平面上的投影與頂蓋10投影重合，即二者長、寬尺寸相同；接地金屬板40為薄片狀矩形體；接地金屬板40在水平面上的投影與頂蓋10投影重合，即絕緣介質(zhì)板30、接地金屬板40的長、寬尺寸均與頂蓋10相同；安裝時，絕緣介質(zhì)板30下表面與接地金屬板40上表面緊密結(jié)合；頂蓋10、電極板20、絕緣介質(zhì)板30和接地金屬板40自上而下依次組裝在一起，即構(gòu)成激勵器。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人中國人民解放軍空軍工程大學，其通訊地址為：710051 陜西省西安市長樂東路甲字1號空軍工程大學；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。