恭喜晶芯成(北京)科技有限公司;合肥晶合集成電路股份有限公司黃望望獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網恭喜晶芯成(北京)科技有限公司;合肥晶合集成電路股份有限公司申請的專利反應腔室的清潔方法及反應腔室獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119351989B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411931915.4，技術領域涉及：C23C16/44；該發明授權反應腔室的清潔方法及反應腔室是由黃望望;胡萬春設計研發完成，并于2024-12-26向國家知識產權局提交的專利申請。
本反應腔室的清潔方法及反應腔室在說明書摘要公布了：本申請實施例提供了一種反應腔室的清潔方法及反應腔室，所述清潔方法包括：對所述反應腔室進行第一清潔過程；其中，所述第一清潔過程產生冷凝于所述反應腔室的至少部分區域的清潔副產物；加熱所述至少部分區域，以在針對所述反應腔室的第二清潔過程中，清潔所述至少部分區域的清潔副產物。所述反應腔室的清潔方法通過針對第一清潔過程中存在的清潔副產物殘留進行二次清潔，在一定程度上能夠改善CVD反應腔室內顆粒物污染的情況。
本發明授權反應腔室的清潔方法及反應腔室在權利要求書中公布了：1.一種反應腔室的清潔方法，其特征在于，所述反應腔室的清潔方法包括：對所述反應腔室進行第一清潔過程；所述第一清潔過程用于對化學氣相沉積工藝過程中反應腔室的殘留物進行清潔；其中，在所述第一清潔過程中，采用的清潔氣體與所述殘留物作用后產生有清潔副產物，所述清潔副產物冷凝并累積于所述反應腔室的至少部分區域；其中，所述至少部分區域的溫度低于反應腔室的其他區域；加熱所述至少部分區域，以在針對所述反應腔室的第二清潔過程中，清潔所述至少部分區域的清潔副產物。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人晶芯成(北京)科技有限公司;合肥晶合集成電路股份有限公司，其通訊地址為：100176 北京市大興區北京經濟技術開發區科創十三街29號院一區2號樓13層1302-C54；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號