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龍圖騰網恭喜榮芯半導體(寧波)有限公司申請的專利一種提高晶圓量測準確率的方法、系統及存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119689799B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510216578.9，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權一種提高晶圓量測準確率的方法、系統及存儲介質是由劉寧寧設計研發完成，并于2025-02-26向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種提高晶圓量測準確率的方法、系統及存儲介質在說明書摘要公布了：本申請提供一種提高晶圓量測準確率的方法、系統及存儲介質，該方法包括：基于設計圖形在量測軟件中生成預定義量測圖形；基于光學仿真模型進行仿真，得到仿真圖形，仿真圖形表征掩模版上的圖形投影在晶圓上得到的圖形，掩模版上的圖形是基于設計圖形確定的；獲取預定義量測圖形與仿真圖形的相似度；調整預定義量測圖形的形貌參數直到預定義量測圖形與仿真圖形的相似度在預設閾值范圍內；基于調整后的預定義量測圖形對晶圓進行量測，得到量測數據。本申請方案通過調整預定義量測圖形的形貌參數直到預定義量測圖形與仿真圖形的相似度在預設閾值范圍內，能夠最大程度地使預定義量測圖形與晶圓上投影得到的實際圖形保持一致，提高晶圓量測的準確率。

本發明授權一種提高晶圓量測準確率的方法、系統及存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種提高晶圓量測準確率的方法，其特征在于，所述方法包括：基于設計圖形在量測軟件中生成預定義量測圖形；基于光學仿真模型進行仿真，得到仿真圖形，所述仿真圖形表征掩模版上的圖形投影在晶圓上得到的圖形，所述掩模版上的圖形是基于所述設計圖形確定的；獲取所述預定義量測圖形與所述仿真圖形的相似度，包括：基于所述預定義量測圖形的形貌函數與所述仿真圖形的形貌函數獲取所述預定義量測圖形與所述仿真圖形的相似度；調整所述預定義量測圖形的形貌參數直到所述預定義量測圖形與所述仿真圖形的相似度在預設閾值范圍內；基于調整后的所述預定義量測圖形對所述晶圓進行量測，得到量測數據，所述量測數據用于建立基于光學臨近效應修正技術的光學仿真模型。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人榮芯半導體(寧波)有限公司，其通訊地址為：315809 浙江省寧波市北侖區柴橋街道金水橋路28號4幢1號1層-1；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。