恭喜盛美半導體設備(上海)股份有限公司余齊興獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜盛美半導體設備(上海)股份有限公司申請的專利離子交換膜固定裝置及電鍍裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112921381B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201911242550.3，技術領域涉及：C25D17/00；該發明授權離子交換膜固定裝置及電鍍裝置是由余齊興;楊宏超;金一諾;陸陳華;王堅;王暉設計研發完成，并于2019-12-06向國家知識產權局提交的專利申請。
本離子交換膜固定裝置及電鍍裝置在說明書摘要公布了：本發明提供一種離子交換膜固定裝置及電鍍裝置，離子交換膜固定裝置包括：離子膜骨架，其上形成有凹槽結構；第一墊片，設置于凹槽結構底部；第二墊片，設置于凹槽結構中且位于第一墊片上方；離子交換膜包括待固定區域，待固定區域至少位于第一墊片與第二墊片之間，第一墊片、第二墊片及離子交換膜的厚度之和等于凹槽結構的深度；至少一個固定組件，至少設置于離子膜骨架上，以將離子交換膜固定在離子膜骨架上。本發明的離子交換膜固定裝置，設置凹槽結構的深度等于第一墊片、第二墊片以及離子交換膜的厚度之和，可以有效地將所述離子交換膜固定，減小離子交換膜由于固定發生損壞的問題。
本發明授權離子交換膜固定裝置及電鍍裝置在權利要求書中公布了：1.一種離子交換膜固定裝置，適于固定離子交換膜，其特征在于，所述離子交換膜固定裝置包括：離子膜骨架，所述離子膜骨架上形成有凹槽結構；第一墊片，設置于所述凹槽結構的底部；第二墊片，設置于所述凹槽結構中且位于所述第一墊片上方；其中，所述離子交換膜包括待固定區域，所述待固定區域至少位于所述第一墊片與所述第二墊片之間，且所述第一墊片、所述第二墊片以及所述離子交換膜的厚度之和等于所述凹槽結構的深度；以及至少一個固定組件，所述固定組件至少設置于所述離子膜骨架上以將所述離子交換膜固定在所述離子膜骨架上。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人盛美半導體設備(上海)股份有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區中國(上海)自由貿易試驗區蔡倫路1690號第4幢；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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