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龍圖騰網(wǎng)恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利光刻工藝及關(guān)聯(lián)設(shè)備的子場控制獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114174927B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-13發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080048266.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)光刻工藝及關(guān)聯(lián)設(shè)備的子場控制是由P·G·J·斯莫雷伯格;P·薩普塔拉;P·德爾溫;K·艾爾巴泰設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-06-10向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本光刻工藝及關(guān)聯(lián)設(shè)備的子場控制在說明書摘要公布了：公開了一種用于確定場內(nèi)校正以控制光刻設(shè)備的方法，該光刻設(shè)備被配置為曝光在襯底的曝光場上的圖案，所述方法包括：獲取用于確定所述場內(nèi)校正的量測數(shù)據(jù)；在該量測數(shù)據(jù)不可靠的情況下和或在所述光刻設(shè)備在啟動基于該量測數(shù)據(jù)的電位啟動輸入方面受限的情況下，確定指示較低精確度的精確度度量；以及至少部分地基于該精確度度量來確定所述場內(nèi)校正。

本發(fā)明授權(quán)光刻工藝及關(guān)聯(lián)設(shè)備的子場控制在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于確定場內(nèi)校正以控制光刻設(shè)備的方法，所述光刻設(shè)備被配置為曝光在襯底的曝光場上的圖案，所述方法包括：獲取用于確定所述場內(nèi)校正的量測數(shù)據(jù)；在所述量測數(shù)據(jù)不可靠的情況下和或在所述光刻設(shè)備在啟動基于所述量測數(shù)據(jù)的電位啟動輸入方面受限的情況下，確定指示較低精確度的精確度度量；使用所述精確度度量從控制策略庫中選擇控制策略，并且其中所述場內(nèi)校正至少部分地基于所選擇的控制策略；以及至少部分地基于所述精確度度量來確定所述場內(nèi)校正。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。