恭喜ASML荷蘭有限公司P·G·J·斯莫雷伯格獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利光刻工藝及關聯設備的子場控制獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114174927B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080048266.7,技術領域涉及:G03F7/20;該發明授權光刻工藝及關聯設備的子場控制是由P·G·J·斯莫雷伯格;P·薩普塔拉;P·德爾溫;K·艾爾巴泰設計研發完成,并于2020-06-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本光刻工藝及關聯設備的子場控制在說明書摘要公布了:公開了一種用于確定場內校正以控制光刻設備的方法,該光刻設備被配置為曝光在襯底的曝光場上的圖案,所述方法包括:獲取用于確定所述場內校正的量測數據;在該量測數據不可靠的情況下和或在所述光刻設備在啟動基于該量測數據的電位啟動輸入方面受限的情況下,確定指示較低精確度的精確度度量;以及至少部分地基于該精確度度量來確定所述場內校正。
本發明授權光刻工藝及關聯設備的子場控制在權利要求書中公布了:1.一種用于確定場內校正以控制光刻設備的方法,所述光刻設備被配置為曝光在襯底的曝光場上的圖案,所述方法包括:獲取用于確定所述場內校正的量測數據;在所述量測數據不可靠的情況下和或在所述光刻設備在啟動基于所述量測數據的電位啟動輸入方面受限的情況下,確定指示較低精確度的精確度度量;使用所述精確度度量從控制策略庫中選擇控制策略,并且其中所述場內校正至少部分地基于所選擇的控制策略;以及至少部分地基于所述精確度度量來確定所述場內校正。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司,其通訊地址為:荷蘭維德霍溫;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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