買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費！專利年費監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)恭喜安陽師范學(xué)院申請的專利用于有源器件的襯底介質(zhì)及其加工方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114975338B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-13發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110188861.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L23/498；該發(fā)明授權(quán)用于有源器件的襯底介質(zhì)及其加工方法是由袁地;馬東偉;張穎新;田俊龍;耿會娟;支涵斐;胡其成;甄華夏設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-02-19向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于有源器件的襯底介質(zhì)及其加工方法在說明書摘要公布了：本申請?zhí)峁┝艘环N用于有源器件的襯底介質(zhì)及其加工方法。其通過在絕緣材質(zhì)的介質(zhì)基材中嵌入上下兩層金屬層，并在兩層金屬層中分別設(shè)置相互對應(yīng)且尺寸結(jié)構(gòu)匹配于器件的金屬單元和耦合單元，從而通過上下金屬層之間形成的等效感抗實現(xiàn)對器件間干擾信號的吸收和屏蔽。本申請的上下兩層金屬層還可通過外側(cè)完整金屬單元和耦合單元，實現(xiàn)對外部電磁場的隔離屏蔽。金屬單元與提供器件電連接的連接孔相配合，能夠通過金屬單元環(huán)繞連接孔從而進(jìn)一步提供對器件引腳的電磁隔離和信號防護(hù)。本申請可以有效拓展有源器件的線性工作頻帶范圍，從而穩(wěn)定電路信號輸出，降低電路系統(tǒng)噪聲和電磁干擾。

本發(fā)明授權(quán)用于有源器件的襯底介質(zhì)及其加工方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于有源器件的襯底介質(zhì)，其特征在于，包括：介質(zhì)基材（1），其為絕緣介質(zhì)；第一金屬層（11），其設(shè)置在介質(zhì)基材（1）中，包括等間距排列平鋪整個介質(zhì)基材（1）的若干金屬單元，各金屬單元之間無直接電接觸，且相鄰兩金屬單元之間具有沿第一方向開設(shè)的第一耦合開口；第二金屬層（12），其設(shè)置在介質(zhì)基材（1）中，包括等間距排列平鋪整個介質(zhì)基材（1）的若干耦合單元，各耦合單元分別與各金屬單元一一對應(yīng)設(shè)置在所述金屬單元的正下方，各耦合單元之間無直接電接觸，相鄰兩耦合單元之間具有沿第二方向開設(shè)的第二耦合開口；連接孔（31），其垂直貫穿所述金屬單元，由介質(zhì)基材的上表面向下延伸至第一金屬層（11）和第二金屬層（12）之間；電路布線（32），其水平設(shè)置在第一金屬層（11）和第二金屬層（12）之間，根據(jù)器件之間電路連接狀況連接在相應(yīng)連接孔（31）之間，在器件之間形成電通路。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人安陽師范學(xué)院，其通訊地址為：455000 河南省安陽市文峰區(qū)弦歌大道436號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。