安陽師范學院袁地獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉安陽師范學院申請的專利用于有源器件的襯底介質及其加工方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114975338B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110188861.7,技術領域涉及:H01L23/498;該發明授權用于有源器件的襯底介質及其加工方法是由袁地;馬東偉;張穎新;田俊龍;耿會娟;支涵斐;胡其成;甄華夏設計研發完成,并于2021-02-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于有源器件的襯底介質及其加工方法在說明書摘要公布了:本申請提供了一種用于有源器件的襯底介質及其加工方法。其通過在絕緣材質的介質基材中嵌入上下兩層金屬層,并在兩層金屬層中分別設置相互對應且尺寸結構匹配于器件的金屬單元和耦合單元,從而通過上下金屬層之間形成的等效感抗實現對器件間干擾信號的吸收和屏蔽。本申請的上下兩層金屬層還可通過外側完整金屬單元和耦合單元,實現對外部電磁場的隔離屏蔽。金屬單元與提供器件電連接的連接孔相配合,能夠通過金屬單元環繞連接孔從而進一步提供對器件引腳的電磁隔離和信號防護。本申請可以有效拓展有源器件的線性工作頻帶范圍,從而穩定電路信號輸出,降低電路系統噪聲和電磁干擾。
本發明授權用于有源器件的襯底介質及其加工方法在權利要求書中公布了:1.一種用于有源器件的襯底介質,其特征在于,包括:介質基材(1),其為絕緣介質;第一金屬層(11),其設置在介質基材(1)中,包括等間距排列平鋪整個介質基材(1)的若干金屬單元,各金屬單元之間無直接電接觸,且相鄰兩金屬單元之間具有沿第一方向開設的第一耦合開口;第二金屬層(12),其設置在介質基材(1)中,包括等間距排列平鋪整個介質基材(1)的若干耦合單元,各耦合單元分別與各金屬單元一一對應設置在所述金屬單元的正下方,各耦合單元之間無直接電接觸,相鄰兩耦合單元之間具有沿第二方向開設的第二耦合開口;連接孔(31),其垂直貫穿所述金屬單元,由介質基材的上表面向下延伸至第一金屬層(11)和第二金屬層(12)之間;電路布線(32),其水平設置在第一金屬層(11)和第二金屬層(12)之間,根據器件之間電路連接狀況連接在相應連接孔(31)之間,在器件之間形成電通路。
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