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龍圖騰網恭喜上海新拓分析儀器科技有限公司申請的專利加壓濕法消解裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113049357B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110356317.9，技術領域涉及：G01N1/44；該發明授權加壓濕法消解裝置是由余偉杰;張和清設計研發完成，并于2021-04-01向國家知識產權局提交的專利申請。

本加壓濕法消解裝置在說明書摘要公布了：該發明公開了一種加壓濕法消解裝置，包括：多個消解罐；隔離組件，所述隔離組件包括多個隔離罐，所述隔離罐形成有適于容納所述消解罐的隔離腔，所述消解罐可拆卸地容納于所述隔離腔內，所述隔離罐和所述消解罐上形成有用于在上下方向上限制所述消解罐受熱膨脹的防膨脹結構；加熱件，所述加熱件形成有多個適于容納所述隔離罐的加熱腔，所述隔離罐可分離地設在所述加熱腔內；密封組件，所述密封組件用于對所述消解罐進行密封。所述加壓濕法消解裝置能夠提高散熱效率，減小消解罐的膨脹斷裂，增長使用壽命，降低加壓濕法消解裝置的使用成本。

本發明授權加壓濕法消解裝置在權利要求書中公布了：1.一種加壓濕法消解裝置，其特征在于，包括：多個消解罐；隔離組件，所述隔離組件包括多個隔離罐，所述隔離罐形成有適于容納所述消解罐的隔離腔，所述消解罐可拆卸地容納于所述隔離腔內，所述隔離罐和所述消解罐上形成有用于在上下方向上限制所述消解罐受熱膨脹的防膨脹結構，所述防膨脹結構形成在所述消解罐和所述隔離腔的上部，所述防膨脹結構包括形成在所述消解罐上的第一限位結構和形成在所述隔離腔內的第二限位結構，所述第一限位結構形成在所述消解罐的外表面上，所述第二限位結構形成在所述隔離腔的內壁面上，所述第一限位結構止抵所述第二限位結構的下表面以防止所述消解罐受熱而向上膨脹延伸；加熱件，所述加熱件為板狀結構，所述加熱件內形成有多個適于容納所述隔離罐的加熱腔，所述加熱腔沿所述加熱件的厚度方向延伸，所述隔離罐可分離地設在所述加熱腔內；密封組件，所述密封組件用于對所述消解罐進行密封。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海新拓分析儀器科技有限公司，其通訊地址為：201613 上海市松江區中創路68號20幢501室、601室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。