恭喜哈爾濱工業(yè)大學(威海)王瑞獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜哈爾濱工業(yè)大學(威海)申請的專利基于誤差分析的雷達天線裝配過程優(yōu)化方法獲國家發(fā)明授權專利權,本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114595558B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉:該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為:202210102484.5,技術領域涉及:G06F30/20;該發(fā)明授權基于誤差分析的雷達天線裝配過程優(yōu)化方法是由王瑞;王琳;鐘詩勝;薛佳設計研發(fā)完成,并于2022-01-27向國家知識產權局提交的專利申請。
本基于誤差分析的雷達天線裝配過程優(yōu)化方法在說明書摘要公布了:本申請?zhí)峁┝艘环N基于誤差分析的雷達天線裝配過程優(yōu)化方法,包括電性能與天線單元誤差關聯(lián)分析和采用誤差分析對裝配過程進行優(yōu)化。本申請?zhí)峁┑幕谡`差分析的雷達天線裝配過程優(yōu)化方法,經過優(yōu)化后的排序降低了位置誤差的影響,接近理想位置的電場值。
本發(fā)明授權基于誤差分析的雷達天線裝配過程優(yōu)化方法在權利要求書中公布了:1.基于誤差分析的雷達天線裝配過程優(yōu)化方法,其特征在于:包括電性能與天線單元誤差關聯(lián)分析和采用誤差分析對裝配過程進行優(yōu)化;電性能與天線單元誤差關聯(lián)分析包括以下步驟:步驟S101:陣面電性能計算;步驟S102:陣面遠場方向圖計算;步驟S103:陣面電場靈敏度分析;步驟S103中,天線由于全陣面一共包含上百個子陣,計算陣列公差靈敏度,分配不同位置的公差分布,再將帶有不同位置誤差范圍的子陣安置在合適的位置;對可導函數(shù)--場強方向圖進行求導,可得陣列天線電場強度對天線單元位置的靈敏度,計算模型為: (10) (11) (12);采用誤差分析對裝配過程進行優(yōu)化包括以下步驟:步驟S201:建立天線單元位置誤差模型,將誤差小的集中于陣面中心,對帶有位置誤差的子陣重新排布;步驟S202:天線遠場方向圖計算,步驟S203:優(yōu)化后裝配順序仿真驗證。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯(lián)系本專利的申請人或專利權人哈爾濱工業(yè)大學(威海),其通訊地址為:264209 山東省威海市文化西路2號;或者聯(lián)系龍圖騰網官方客服,聯(lián)系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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