恭喜武漢高德智感科技有限公司黃晟獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜武漢高德智感科技有限公司申請的專利紅外圖像去除橫豎紋的方法、系統(tǒng)、電子設(shè)備和存儲介質(zhì)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN114627026B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-13發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202210305485.X,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G06T5/77;該發(fā)明授權(quán)紅外圖像去除橫豎紋的方法、系統(tǒng)、電子設(shè)備和存儲介質(zhì)是由黃晟;付航;黃超設(shè)計研發(fā)完成,并于2022-03-25向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本紅外圖像去除橫豎紋的方法、系統(tǒng)、電子設(shè)備和存儲介質(zhì)在說明書摘要公布了:本申請?zhí)峁┝思t外圖像去除橫豎紋的方法、系統(tǒng)、電子設(shè)備和存儲介質(zhì),包括:對原始去橫豎紋算法進行算法優(yōu)化,獲取優(yōu)化后去橫豎紋算法;通過ARM架構(gòu)中的NEON運算單元根據(jù)所述優(yōu)化后去橫豎紋算法對待處理紅外圖像進行去除橫豎紋計算。不僅通過優(yōu)化原始去橫豎紋算法,降低了原始去橫豎紋算法中較影響計算速度的判斷計算,提高了運算效率,而且通過ARM架構(gòu)中的NEON運算單元執(zhí)行去橫豎紋算法,取代了原來需要的FPGA計算模塊,降低了設(shè)備的生產(chǎn)成本。
本發(fā)明授權(quán)紅外圖像去除橫豎紋的方法、系統(tǒng)、電子設(shè)備和存儲介質(zhì)在權(quán)利要求書中公布了:1.一種紅外圖像去除橫豎紋的方法,其特征在于,所述方法包括:對原始去橫豎紋算法進行算法優(yōu)化,獲取優(yōu)化后去橫豎紋算法,所述對原始去橫豎紋算法進行算法優(yōu)化,包括:步驟201,通過預(yù)設(shè)的濾波模板和預(yù)設(shè)的灰度差算法對待處理紅外圖像進行濾波擴展處理,獲取待處理紅外圖像的灰度差值,所述灰度差算法為:gray_diff[m][n]=src[i][j]-src[m][n],m∈[i-1,i+1],n∈[j-1,j+1],i∈[0,h],j∈[0,w];步驟202,根據(jù)所述灰度差值查表獲取待處理像素點的權(quán)值,并根據(jù)預(yù)設(shè)的累計和公式獲取所述待處理像素點的累計和,所述累計和公式為: 步驟203,根據(jù)所述累計和以及預(yù)設(shè)的加權(quán)和公式獲取所述待處理像素點的加權(quán)和,所述加權(quán)和公式為: 步驟204,根據(jù)所述累計和、加權(quán)和以及預(yù)設(shè)的濾波求值公式,獲取所述待處理像素點濾波后的值,所述濾波求值公式為:步驟205,根據(jù)預(yù)設(shè)的權(quán)值矩陣算法獲取所述待處理像素點的權(quán)值矩陣,所述權(quán)值矩陣算法為:通過ARM架構(gòu)中的NEON運算單元根據(jù)所述優(yōu)化后去橫豎紋算法對待處理紅外圖像進行去除橫豎紋計算;其中,m、n表示窗口的索引,i、j表示當(dāng)前圖像的索引,h表示擴展后的所述待處理紅外圖像的高度,w表示擴展后的所述待處理紅外圖像的寬度,gray_weight_table表示高斯權(quán)重表,src表示當(dāng)前像素點的值。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人武漢高德智感科技有限公司,其通訊地址為:430205 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)高新三路29號;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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