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龍圖騰網恭喜浙江麗水中欣晶圓半導體科技有限公司申請的專利外延片電阻值測量預處理裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119742253B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510249384.9，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權外延片電阻值測量預處理裝置是由徐新華設計研發完成，并于2025-03-04向國家知識產權局提交的專利申請。

本外延片電阻值測量預處理裝置在說明書摘要公布了：本發明涉及外延片生產設備技術領域，公開了一種外延片電阻值測量預處理裝置，包括主體，所述主體的頂部依次開設有一級清洗池、二級清洗池和三級清洗池，還包括：放置架，放置架包括：架體；放置槽；流體通道；清洗輥，其呈空心圓管狀，所述清洗輥轉動設置于所述架體，清洗輥兩端連通至流體通道，兩個清洗輥相對鏡像設置于架體下部兩側；槳葉，其固定設置于所述清洗輥端部；噴洗孔，其均勻開設于所述清洗輥中部；壓緊組件，使外延片抵至清洗輥；泵，其設置于所述三級清洗池的一側。本發明能解決或至少減輕現有外延片表面預處理裝置易使外延片表面出現劃痕且附著的細微顆粒較多的問題，提供外延片電阻值測量預處理裝置。

本發明授權外延片電阻值測量預處理裝置在權利要求書中公布了：1.一種外延片電阻值測量預處理裝置，包括主體（1），所述主體（1）的頂部依次開設有一級清洗池（2）、二級清洗池（3）和三級清洗池（4），其特征在于，還包括：放置架（5），其用于收納放置多個外延片（6），并通過機械臂將放置架（5）依次放入一級清洗池（2）、二級清洗池（3）和三級清洗池（4）內進行清洗，所述放置架（5）包括：架體（501）；放置槽（502），其均勻開設于所述架體（501）的中部；流體通道（503），其開設于所述架體（501）的內部，且一端貫穿至所述架體（501）的底端，另一端向上延伸至所述架體（501）的頂端；清洗輥（504），其呈空心圓管狀，所述清洗輥（504）轉動設置于所述架體（501），清洗輥（504）兩端連通至流體通道（503），兩個清洗輥（504）相對鏡像設置于架體（501）下部兩側，清洗輥（504）對放入架體（501）內的外延片（6）底部進行支撐；槳葉（505），其固定設置于所述清洗輥（504）端部，流體通道（503）內的流體進入清洗輥（504）時，通過槳葉（505）帶動清洗輥（504）轉動，清洗輥（504）轉動時帶動架體（501）內的外延片（6）轉動；噴洗孔（506），其均勻開設于所述清洗輥（504）中部，所述噴洗孔（506）與所述放置槽（502）一一交錯設置，噴洗孔（506）的噴射方向朝向其對應的放置槽（502）內的外延片（6）側面；壓緊組件（9），其轉動設置于所述放置架（5）的頂部兩側，所述壓緊組件（9）將外延片（6）限制在所述放置架（5）的內部，使外延片（6）抵至清洗輥（504）；供流通道（10），其布設于所述主體（1）內且位于三級清洗池（4）下方，放置架（5）位于三級清洗池（4）底面時，所述供流通道（10）與流體通道（503）連通；導流通道（11），其布設于所述主體（1）內且位于三級清洗池（4）側面；泵（12），其設置于所述三級清洗池（4）的一側，所述泵（12）的出口端連通至所述供流通道（10），泵（12）的進口端通過所述導流通道（11）連通至三級清洗池（4）內，泵（12）將三級清洗池（4）內的液體通過供流通道（10）和流體通道（503）供應至清洗輥（504）；還包括干燥組件（7），所述干燥組件（7）包括：熱氮氣源（701），其連通至所述供流通道（10）；異丙醇蒸汽源（702），其連通至所述泵（12）的進口端；導氣管（703），其縱向設置于所述三級清洗池（4）內上部，所述導氣管（703）上端連通至所述異丙醇蒸汽源（702）；升降導塊（704），其內設置有導氣孔（705），所述導氣孔（705）上部密封滑動套設于導氣管（703）下部，導氣孔（705）下端對應于所述導流通道（11）；浮塊（706），其固定設置于升降導塊（704），所述浮塊（706）為升降導塊（704）提供浮力，使升降導塊（704）隨第三清洗池內的液面升降。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人浙江麗水中欣晶圓半導體科技有限公司，其通訊地址為：323000 浙江省麗水市蓮都區南明山街道綠谷大道309號國際車城15號樓11層-241；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。