恭喜東京毅力科創株式會社天野嘉文獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜東京毅力科創株式會社申請的專利基板處理系統和基板處理裝置的管理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114188243B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111334272.1，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權基板處理系統和基板處理裝置的管理方法是由天野嘉文;守田聰;池邊亮二;宮本勲武設計研發完成，并于2017-03-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板處理系統和基板處理裝置的管理方法在說明書摘要公布了：提供一種基板處理系統和基板處理裝置的管理方法。通過對與基板的周緣部的膜去除有關的信息進行管理，能夠長期地穩定地運用基板處理裝置。具備：測定處理工序，基于通過由所述拍攝部對基于基板處理制程被處理后的基板的周緣部進行拍攝所得到的拍攝圖像，測定所述膜的去除寬度；制作工序，制作將所述膜的去除寬度的設定值、通過所述測定處理工序測定出的膜的去除寬度的測定值以及得到所述測定結果的時刻信息相關聯的管理列表；分析工序，基于制作出的所述管理列表來分析基板處理的狀態；以及通知工序，根據所述分析工序的分析結果，對使用者進行規定的通知。
本發明授權基板處理系統和基板處理裝置的管理方法在權利要求書中公布了：1.一種基板處理系統，包括進行去除基板的周緣部的膜的處理的基板處理裝置、拍攝所述基板的周緣部的攝像裝置、進行基于拍攝圖像的測定處理的測定處理裝置以及對與測定處理有關的信息進行管理的信息處理裝置，該基板處理系統的特征在于，所述基板處理裝置具備：旋轉保持部，其保持所述基板并使所述基板旋轉；以及處理液供給部，其向所述基板的周緣部供給用于去除所述膜的處理液，所述測定處理裝置具備控制部，該控制部基于由所述攝像裝置得到的拍攝圖像，來測定所述膜的去除寬度，所述信息處理裝置具備控制部，該控制部制作將包含所述膜的去除寬度的設定值的處理制程信息與包含測定出的所述膜的去除寬度的測定值以及得到測定結果的時刻信息的測定處理結果信息相關聯的管理列表，基于制作出的所述管理列表來分析所述測定結果的經時變化。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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