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龍圖騰網(wǎng)恭喜上海飚輝科技有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利吊頂掛墻式高濃度負(fù)離子防止黑墻用屏蔽裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN113490404B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202110890062.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H05K9/00；該發(fā)明授權(quán)吊頂掛墻式高濃度負(fù)離子防止黑墻用屏蔽裝置是由魯禮建設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-08-04向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本吊頂掛墻式高濃度負(fù)離子防止黑墻用屏蔽裝置在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明公開(kāi)了吊頂掛墻式高濃度負(fù)離子防止黑墻用屏蔽裝置，屬于新風(fēng)凈化技術(shù)領(lǐng)域。它包括安裝主體和負(fù)離子裝置，還包括保護(hù)膜、屏蔽金屬圈和導(dǎo)電部；負(fù)離子裝置設(shè)置在安裝主體上，保護(hù)膜套設(shè)在負(fù)離子裝置上，且保護(hù)膜與安裝主體緊貼設(shè)置，保護(hù)膜與安裝主體之間呈空氣隔絕狀態(tài)；屏蔽金屬圈嵌設(shè)在保護(hù)膜的內(nèi)側(cè)壁，且屏蔽金屬圈環(huán)繞設(shè)置在負(fù)離子裝置上。本發(fā)明在負(fù)離子發(fā)射頭周?chē)O(shè)置保護(hù)膜，使得安裝主體與流動(dòng)的空氣隔絕，同時(shí)保護(hù)膜內(nèi)的屏蔽金屬圈改變了負(fù)離子發(fā)射頭形成的電暈輻射場(chǎng)，在安裝主體層面形成一個(gè)截?cái)嘧饔茫瑥亩畲笙薅鹊淖柚箯?qiáng)電場(chǎng)去聚集空氣中的超細(xì)顆粒物，防止黑墻現(xiàn)象發(fā)生。

本發(fā)明授權(quán)吊頂掛墻式高濃度負(fù)離子防止黑墻用屏蔽裝置在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.吊頂掛墻式高濃度負(fù)離子防止黑墻用屏蔽裝置，包括安裝主體（1）和負(fù)離子裝置（2），其特征在于：還包括保護(hù)膜（3）、屏蔽金屬圈（4）和導(dǎo)電部；所述負(fù)離子裝置（2）設(shè)置在安裝主體（1）上，所述保護(hù)膜（3）套設(shè)在負(fù)離子裝置（2）上，且所述保護(hù)膜（3）與安裝主體（1）緊貼設(shè)置，所述保護(hù)膜（3）與安裝主體（1）之間呈空氣隔絕狀態(tài)；所述屏蔽金屬圈（4）嵌設(shè)在保護(hù)膜（3）的內(nèi)側(cè)壁，且所述屏蔽金屬圈（4）環(huán)繞設(shè)置在負(fù)離子裝置（2）上，所述屏蔽金屬圈（4）的最下沿位置高度低于負(fù)離子裝置（2）的發(fā)射頭高度；所述屏蔽金屬圈（4）與多個(gè)導(dǎo)電部連接，多個(gè)所述導(dǎo)電部均勻分布在保護(hù)膜（3）的外邊緣處，用于降低自身的電勢(shì)電壓形成的電暈二次發(fā)散效應(yīng)。

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