恭喜武漢帝爾激光科技股份有限公司阿米爾·諾伊獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜武漢帝爾激光科技股份有限公司申請的專利圖案轉印片、監測圖案轉印的方法和圖案轉印系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115610127B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111034191.X，技術領域涉及：B41M5/00；該發明授權圖案轉印片、監測圖案轉印的方法和圖案轉印系統是由阿米爾·諾伊;本尼·納韋;埃亞爾·科恩;瓦萊里·索林;多爾·德羅爾設計研發完成，并于2021-09-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本圖案轉印片、監測圖案轉印的方法和圖案轉印系統在說明書摘要公布了：本發明提供了圖案轉印片、監測圖案轉印的方法和圖案轉印系統，用于監測和調節用于將漿料圖案從轉印片上的溝槽轉移到襯底例如電路和或太陽能電池襯底上的激光照射。圖案轉印片在圖案的外部包括i跡線標記，其配置為接收印刷漿料，與溝槽對準并且比照射激光束的寬度寬，以檢測從跡線標記內釋放的漿料的未對準，和或ii工作窗口標記，其配置為接收印刷漿料，相對于指定溝槽以指定偏移量設置，不同的工作窗口標記以不同的偏移量設置，以通過調節激光束的功率來校正有效工作窗口。
本發明授權圖案轉印片、監測圖案轉印的方法和圖案轉印系統在權利要求書中公布了：1.一種圖案轉印片，包括：多個溝槽，以指定圖案布置，并且配置為接收印刷漿料并在由激光束照射時將所述印刷漿料從所述溝槽釋放到接收襯底上，其特征在于，所述圖案轉印片包括以下中的至少一者：（i）至少一個跡線標記，位于所述指定圖案的外部并且配置為接收所述印刷漿料，其中，所述至少一個跡線標記相對于所述多個溝槽中的至少一個溝槽對準，并且比所述激光束的寬度寬；以及（ii）多個工作窗口標記，所述工作窗口標記位于所述指定圖案的外部并配置為接收所述印刷漿料，其中，所述工作窗口標記相對于所述指定圖案的指定溝槽以指定偏移量設置，并且其中，不同的工作窗口標記以不同的偏移量設置。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人武漢帝爾激光科技股份有限公司，其通訊地址為：430078 湖北省武漢市東湖新技術開發區九龍湖街88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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