恭喜杭州電子科技大學劉艷獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜杭州電子科技大學申請的專利一種GaN HEMT功率器件I-V模型的建立方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114742007B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210138180.4,技術領域涉及:G06F30/373;該發明授權一種GaN HEMT功率器件I-V模型的建立方法是由劉艷;黃昌洋;程知群;王濤;陳思敏設計研發完成,并于2022-02-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種GaN HEMT功率器件I-V模型的建立方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種GaNHEMT功率器件I?V模型的建立方法,以MET模型與Angelov模型為基礎,從模型本身的各參數意義出發,分別改進和建立GaNHEMT的直流I?V正向導通特性模型與反向導通特性模型,并使得模型中每個參數都具有其意義;模型各參數可以采用1stOpt和matlab與測量的I?V數據直接擬合提取,而無需在特定電壓處提取參數的初始值,使得最終得到的GaNHEMT直流I?V模型更為精確。
本發明授權一種GaN HEMT功率器件I-V模型的建立方法在權利要求書中公布了:1.一種GaNHEMT功率器件I-V模型的建立方法,其特征在于,包括:基于MET模型與Angelov模型,建立初始的GaNHEMT直流I-V正向導通特性模型;獲取不同參數下的所述初始的GaNHEMT直流I-V正向導通特性模型中漏源電流Ids的值,確定各參數對所述初始的GaNHEMT直流I-V正向導通特性模型中漏源電流Ids影響的權重;測量GaNHEMT正向導通特性中漏源電流Ids、漏源電壓Vds及柵源電壓Vgs的值,并與所述初始的GaNHEMT直流I-V正向導通特性模型比對,優化所述初始的GaNHEMT直流I-V正向導通特性模型;建立初始的GaNHEMT直流I-V反向導通特性模型;測量GaNHEMT反向導通特性中漏源電流Ids、漏源電壓Vds及柵源電壓Vgs的值,并與所述初始的GaNHEMT直流I-V反向導通特性模型比對,優化所述初始的GaNHEMT直流I-V反向導通特性模型;根據正向導通特性模型及反向導通特性模型,得到非分段的GaNHEMT直流I-V模型;通過非線性擬合確定直流I-V模型中各參數的最優值;具體地,在所述基于MET模型與Angelov模型,建立初始的GaNHEMT直流I-V正向導通特性模型的步驟中,還包括:基于MET模型建立轉移特性方程: 基于AngelovI-V模型中表征輸出特性的方程建立輸出特性方程:Ioutput=foutputVds=tanhaVds1+λVds;其中,K1為飽和電流系數,b1為閾值電壓,c1為跨導相關的調制參數,a表征I-V曲線在膝點電壓區的斜率;λ為溝道長度調制參數,表征I-V曲線在飽和區的斜率;將所述轉移特性方程與所述輸出特性方程相乘,以構建所述初始的GaNHEMT直流I-V正向導通特性模型: 其中,K11為飽和電流調制系數,Vth1為閾值電壓,a10為膝點電壓區調制系數,λ11為溝道長度調制系數;具體地,在所述測量GaNHEMT正向導通特性中漏源電流Ids、漏源電壓Vds及柵源電壓Vgs的值,并與所述初始的GaNHEMT直流I-V正向導通特性模型比對,優化所述初始的GaNHEMT直流I-V正向導通特性模型的步驟中,還包括:對比所述初始的直流I-V正向導通特性模型與GaNHEMT的正向導通特性,引入柵源電壓Vgs相關的飽和電流調制系數K12、陷阱效應調制系數α1和β1、二階溝道長度調制系數λ12,對所述初始的直流I-V正向導通特性模型進行優化,優化后的模型為:
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