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恭喜復(fù)旦大學(xué)張樹宇獲國家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)恭喜復(fù)旦大學(xué)申請(qǐng)的專利一種低鉑含量的單原子與納米顆粒復(fù)合體系催化劑及其制備和應(yīng)用獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN115652362B

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-06發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202211323428.0,技術(shù)領(lǐng)域涉及:C25B11/091;該發(fā)明授權(quán)一種低鉑含量的單原子與納米顆粒復(fù)合體系催化劑及其制備和應(yīng)用是由張樹宇;區(qū)瓊榮;崔明慧設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-10-27向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

一種低鉑含量的單原子與納米顆粒復(fù)合體系催化劑及其制備和應(yīng)用在說明書摘要公布了:本發(fā)明涉及一種低鉑含量的單原子與納米顆粒復(fù)合體系催化劑及其制備和應(yīng)用,該催化劑的制備過程具體為:1將氧化石墨烯粉末進(jìn)行等離子體處理,得到氮摻雜的還原氧化石墨烯;2將氮摻雜的還原氧化石墨烯與一定量的氯鉑酸均勻分散在溶劑中,將分散液凍干得到前驅(qū)體粉末,或者將分散液涂敷在負(fù)載電極或碳紙表面,自然干燥得到前驅(qū)體電極;3將前驅(qū)體粉末或前驅(qū)體電極放置于真空腔體中,進(jìn)行等離子體處理,得到目標(biāo)產(chǎn)物。本發(fā)明通過改變前驅(qū)體中氯鉑酸的添加量和等離子體處理過程,得到不同形貌的催化劑,適用于工業(yè)級(jí)電流密度下催化析氫反應(yīng)的應(yīng)用。

本發(fā)明授權(quán)一種低鉑含量的單原子與納米顆粒復(fù)合體系催化劑及其制備和應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了:1.一種低鉑含量的單原子與納米顆粒復(fù)合體系催化劑的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:(1)將氧化石墨烯粉末進(jìn)行第一次等離子體處理,得到氮摻雜的還原氧化石墨烯;(2)將氮摻雜的還原氧化石墨烯與氯鉑酸均勻分散在溶劑中,得到分散液,將分散液凍干得到前驅(qū)體粉末,或者將分散液涂敷在負(fù)載電極或碳紙表面,自然干燥,得到前驅(qū)體電極;(3)將前驅(qū)體粉末或前驅(qū)體電極放置于真空腔體中,進(jìn)行第二次等離子體處理,得到目標(biāo)產(chǎn)物催化劑,或覆蓋在負(fù)載電極或碳紙表面的目標(biāo)產(chǎn)物催化劑;步驟(1)的第一次等離子體處理過程中,所使用的等離子體為非熱平衡等離子體,放電氣氛為氬氣與氨氣混合氣體,本底真空為1~5Pa;第一次等離子體處理過程中,氬氣與氨氣的流量比為95:5~80:20;步驟(1)的第一次等離子體處理過程中,放電功率為50~500W,處理的時(shí)間為1~30min;步驟(2)中,氯鉑酸與氮摻雜的還原氧化石墨烯的添加量滿足:鉑相對(duì)于氮摻雜的還原氧化石墨烯的質(zhì)量含量為0.5wt%~5wt%,分散液中PtCl62-的摩爾濃度為0.01~0.5mmolL;步驟(3)的第二次等離子處理過程中,所使用的等離子體為非熱平衡等離子體,放電氣氛為氬氣,本底真空為1~5Pa;步驟(3)的第二次等離子處理過程中,放電功率為50~500W,等離子體處理的時(shí)間為0.5~10min;步驟(2)中,所述溶劑為乙醇與去離子水的混合溶劑,其中,乙醇與去離子水的體積比為(0~1):1,且乙醇添加量不為0。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人復(fù)旦大學(xué),其通訊地址為:200433 上海市楊浦區(qū)邯鄲路220號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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