恭喜ASML荷蘭有限公司J-G·C·范德托恩獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜ASML荷蘭有限公司申請(qǐng)的專利用于在帶電粒子裝置中進(jìn)行光學(xué)測(cè)量的裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN113272932B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:201980087228.X,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01J37/02;該發(fā)明授權(quán)用于在帶電粒子裝置中進(jìn)行光學(xué)測(cè)量的裝置是由J-G·C·范德托恩;陳仲瑋設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2019-12-19向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本用于在帶電粒子裝置中進(jìn)行光學(xué)測(cè)量的裝置在說明書摘要公布了:帶電粒子檢查系統(tǒng)可以包括具有孔徑或一個(gè)以上孔徑的屏蔽板,例如,以允許通過附加儀器進(jìn)行附加檢查,該附加儀器需要到感興趣區(qū)域的視線。諸如窗口元件或凸起邊緣的場(chǎng)成形元件被放置在孔徑處以防止或減少電場(chǎng)的分量。
本發(fā)明授權(quán)用于在帶電粒子裝置中進(jìn)行光學(xué)測(cè)量的裝置在權(quán)利要求書中公布了:1.一種電子束檢查裝置,包括:平坦的板,包括導(dǎo)電材料和限定貫通孔徑的結(jié)構(gòu),所述貫通孔徑被配置為定位在晶片臺(tái)的導(dǎo)電表面上方;以及場(chǎng)成形元件,被定位在所述貫通孔徑處,所述場(chǎng)成形元件被配置為:抵消所述貫通孔徑對(duì)與所述平坦的板相鄰的電場(chǎng)的影響,所述場(chǎng)成形元件導(dǎo)電并且透光,其中所述場(chǎng)成形元件包括所述板的與所述貫通孔徑相鄰的區(qū)域,所述區(qū)域凸起以限定至少部分地圍繞所述孔徑的凸起邊緣,所述凸起邊緣包括導(dǎo)電材料。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人ASML荷蘭有限公司,其通訊地址為:荷蘭維德霍溫;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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