恭喜ASML荷蘭有限公司J-G·C·范德托恩獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利用于在帶電粒子裝置中進行光學測量的裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113272932B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980087228.X，技術領域涉及：H01J37/02；該發明授權用于在帶電粒子裝置中進行光學測量的裝置是由J-G·C·范德托恩;陳仲瑋設計研發完成，并于2019-12-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于在帶電粒子裝置中進行光學測量的裝置在說明書摘要公布了：帶電粒子檢查系統可以包括具有孔徑或一個以上孔徑的屏蔽板，例如，以允許通過附加儀器進行附加檢查，該附加儀器需要到感興趣區域的視線。諸如窗口元件或凸起邊緣的場成形元件被放置在孔徑處以防止或減少電場的分量。
本發明授權用于在帶電粒子裝置中進行光學測量的裝置在權利要求書中公布了：1.一種電子束檢查裝置，包括：平坦的板，包括導電材料和限定貫通孔徑的結構，所述貫通孔徑被配置為定位在晶片臺的導電表面上方；以及場成形元件，被定位在所述貫通孔徑處，所述場成形元件被配置為：抵消所述貫通孔徑對與所述平坦的板相鄰的電場的影響，所述場成形元件導電并且透光，其中所述場成形元件包括所述板的與所述貫通孔徑相鄰的區域，所述區域凸起以限定至少部分地圍繞所述孔徑的凸起邊緣，所述凸起邊緣包括導電材料。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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