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恭喜臺灣積體電路制造股份有限公司陳嘉展獲國家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)恭喜臺灣積體電路制造股份有限公司申請的專利圖像傳感器及其制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113130518B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202010488847.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10F39/18；該發(fā)明授權(quán)圖像傳感器及其制造方法是由陳嘉展設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-06-02向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本圖像傳感器及其制造方法在說明書摘要公布了：一種圖像傳感器的制造方法包括至少以下步驟。在圖像擷取芯片之上形成材料層。在材料層上形成圖案化掩模層，其中圖案化掩模層的圖案密度從圖案化掩模層的中心區(qū)到圖案化掩模層的外圍區(qū)變化。使用圖案化掩模層作為掩模對材料層進(jìn)行研磨，以在圖像擷取芯片上形成包括單個透鏡部分的透鏡層。

本發(fā)明授權(quán)圖像傳感器及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種圖像傳感器的制造方法，包括：在圖像擷取芯片之上形成材料層；在所述材料層上形成圖案化掩模層，其中所述圖案化掩模層的圖案密度從所述圖案化掩模層的中心區(qū)到所述圖案化掩模層的外圍區(qū)發(fā)生變化；以及使用所述圖案化掩模層作為掩模對所述材料層進(jìn)行研磨，以在所述圖像擷取芯片上形成透鏡層，所述透鏡層包括單個透鏡部分，其中所述圖像擷取芯片的側(cè)壁與所述透鏡層的側(cè)壁實質(zhì)上對準(zhǔn)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人臺灣積體電路制造股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū)新竹市力行六路八號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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