恭喜戴森技術有限公司M.倫達爾獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜戴森技術有限公司申請的專利濺射沉積獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114902371B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080090902.2，技術領域涉及：H01J37/32；該發明授權濺射沉積是由M.倫達爾;R.格魯爾設計研發完成，并于2020-11-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本濺射沉積在說明書摘要公布了：一種濺射沉積設備，包括：布置為支撐基底的基底支撐組件；布置為支撐至少一個濺射靶的靶支撐組件，該濺射靶用于靶材料到基底上的濺射沉積；布置成為所述濺射沉積提供等離子體的等離子體生成裝置；以及布置為容納在所述濺射沉積之后具有沉積的靶材料的基底的盒。盒可從濺射沉積設備中移出。
本發明授權濺射沉積在權利要求書中公布了：1.一種濺射沉積設備，包括：基底支撐組件，布置成支撐基底；靶支撐組件，布置成支撐至少一個濺射靶，該至少一個濺射靶用于將靶材料濺射沉積到所述基底上；等離子體生成裝置，布置成提供用于所述濺射沉積的等離子體；以及盒，布置成在所述濺射沉積之后容納具有沉積的靶材料的基底，所述盒還包括所述靶支撐組件和所述至少一個濺射靶，其中在濺射沉積之后，盒可從所述濺射沉積設備移除，在移除時，移除包括靶支撐組件、至少一個濺射靶和具有沉積的靶材料的基底的盒。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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