恭喜南京醫科大學方一民獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜南京醫科大學申請的專利一種干涉-散射增強模式下的暗場顯微鏡獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN110702682B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-07-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201911054952.0，技術領域涉及：G01N21/84；該發明授權一種干涉-散射增強模式下的暗場顯微鏡是由方一民;黃宗雄;陳珊;孫俊杰設計研發完成，并于2019-10-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種干涉-散射增強模式下的暗場顯微鏡在說明書摘要公布了：本發明公開一種干涉?散射增強模式下的暗場顯微鏡，包括用于發出光線的光源、由若干個反射鏡組成的反射光路以及設置于待測樣品上方的檢測裝置，光源發出平行光束經過待測樣品后進入反射光路內，并經反射光路再次以平行光束經過待測樣品，待測樣品發生散射而被檢測裝置所檢測。相對現有技術，本發明技術方案具有結構簡易、方便操作且檢測靈敏、可靠性高等優點，相對現有的暗場顯微鏡，本發明具有顯著提高顯微鏡分辨率和應用范圍、滿足納米尺度的觀測和成像要求，搭建成本低廉，具有能在普通實驗室普及和應用等優點。
本發明授權一種干涉-散射增強模式下的暗場顯微鏡在權利要求書中公布了：1.一種干涉-散射增強模式下的暗場顯微鏡，其特征在于，包括用于發出光線的光源、由若干個反射鏡組成的反射光路以及設置于待測樣品上方的檢測裝置，光源發出平行光束經過待測樣品后進入反射光路內，并經反射光路若干次以平行光束經過待測樣品而被檢測裝置所檢測； 所述反射光路包括處于同一平面內且沿光路依次設置的第一反光鏡、第二反光鏡、第三反光鏡以及第四反光鏡，所述光源與待測樣品之間設有第一準直鏡頭將光源發出的光線耦合后首次經過待測樣品，第二反光鏡和第三反光鏡之間設有減光片，第三反光鏡和待測樣品之間設有第二準直鏡頭與第三反光鏡反射的光線耦合后再次經過待測樣品，第四反光鏡設置于第二準直鏡頭經過待測樣品后的光線前部并將光線持續反射至待測樣品。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人南京醫科大學，其通訊地址為：211166 江蘇省南京市江寧區天元東路818號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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