恭喜戴森技術(shù)有限公司S.卡利獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜戴森技術(shù)有限公司申請的專利用于生成等離子體的方法和裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN114830289B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202080087534.6,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01J37/32;該發(fā)明授權(quán)用于生成等離子體的方法和裝置是由S.卡利;S.高特設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2020-12-04向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本用于生成等離子體的方法和裝置在說明書摘要公布了:提供了一種生成等離子體的方法。該方法使用具有長度的等離子體天線,該方法包括用RF頻率電流驅(qū)動(dòng)等離子體天線的電導(dǎo)體,以在第一位置和第二位置處生成等離子體,第二位置在沿著天線長度的方向上與第一位置間隔開,在第一位置和第二位置之間存在與天線相鄰的區(qū)域,在該區(qū)域處,由于至少一個(gè)屏蔽構(gòu)件,等離子體的生成減少。
本發(fā)明授權(quán)用于生成等離子體的方法和裝置在權(quán)利要求書中公布了:1.一種使用等離子體天線生成等離子體的方法,所述等離子體天線具有長度,所述方法包括用RF頻率電流驅(qū)動(dòng)所述等離子體天線的電導(dǎo)體,以在第一位置和第二位置處生成等離子體,所述第二位置在沿著天線的長度的方向上與所述第一位置間隔開,在所述第一位置和所述第二位置之間存在與所述天線相鄰的區(qū)域,在所述區(qū)域處,由于至少一個(gè)屏蔽構(gòu)件,所述等離子體的生成減少,所述天線產(chǎn)生磁場,其中,所述至少一個(gè)屏蔽構(gòu)件包括具有小于100的相對磁導(dǎo)率的材料。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人戴森技術(shù)有限公司,其通訊地址為:英國威爾特郡;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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