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龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為:202110175285.2,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10F77/30;該發(fā)明授權(quán)一種高效硅異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池及其制備方法是由王錦樂(lè);肖俊峰設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-02-09向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

一種高效硅異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池及其制備方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了:本發(fā)明公開(kāi)了一種高效硅異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池及其制備方法,屬于太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明的電池N型晶體硅片的正面依次設(shè)置薄層SiO2層、氫化非晶碳氧化硅薄膜層、C摻雜SiO2層、非晶硅摻雜N型層、TCO導(dǎo)電層和電極;背面依次設(shè)置薄層SiO2層、氫化非晶碳氧化硅薄膜層、C摻雜SiO2層、非晶硅摻雜P型層、TCO導(dǎo)電層和電極。非晶硅摻雜P型層包括輕摻B非晶硅層和重?fù)紹非晶硅層。本發(fā)明以氫化非晶碳氧化硅薄膜作為本征鈍化層的異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)電池,實(shí)現(xiàn)對(duì)晶硅表面優(yōu)良的鈍化效果,減少界面載流子復(fù)合;同時(shí)采用改進(jìn)的雙擴(kuò)B工藝,防止B2H6摻雜時(shí)B原子向本征非晶硅層擴(kuò)散帶來(lái)的禁帶寬度的降低和不必要的鈍化膜摻雜,提升硅異質(zhì)結(jié)電池的轉(zhuǎn)換效率。

本發(fā)明授權(quán)一種高效硅異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池及其制備方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了:1.一種高效硅異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池,包括N型晶體硅片1,其特征在于:所述N型晶體硅片1的正面依次設(shè)置第二薄層SiO2層301、第二氫化非晶碳氧化硅薄膜層302、第二C摻雜SiO2層303、非晶硅摻雜N型層、第二TCO導(dǎo)電層7和第二電極9;所述N型晶體硅片1的背面依次設(shè)置第一薄層SiO2層201、第一氫化非晶碳氧化硅薄膜層202、第一C摻雜SiO2層203、非晶硅摻雜P型層、第一TCO導(dǎo)電層6和第一電極8;所述的薄層SiO2層的厚度為1-3nm;所述的氫化非晶碳氧化硅薄膜層的厚度為2-10nm,禁帶寬度為1.7-2.3eV。

如需購(gòu)買(mǎi)、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類(lèi)似專(zhuān)利技術(shù),可聯(lián)系本專(zhuān)利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人通威太陽(yáng)能(成都)有限公司;通威太陽(yáng)能(合肥)有限公司;通威太陽(yáng)能(金堂)有限公司;通威太陽(yáng)能(眉山)有限公司;通威太陽(yáng)能(安徽)有限公司,其通訊地址為:610000 四川省成都市雙流區(qū)西南航空港經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)工業(yè)集中發(fā)展區(qū)六期內(nèi);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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