恭喜家登精密工業股份有限公司邱銘乾獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜家登精密工業股份有限公司申請的專利具備抗靜電破壞的掩膜盒及其加工方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114310828B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110684543.X，技術領域涉及：B25H3/02；該發明授權具備抗靜電破壞的掩膜盒及其加工方法是由邱銘乾;莊家和;李怡萱;溫星閔;薛新民;林韻孜設計研發完成，并于2021-06-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本具備抗靜電破壞的掩膜盒及其加工方法在說明書摘要公布了：一種具備抗靜電破壞的掩膜盒及其加工方法，所述掩膜盒包含一底座及多個支撐元件。底座具有一承載面，該承載面形成有一凹槽，該凹槽具有一底面。支撐元件圍繞該底座的承載面并配置成支撐一掩膜。該凹槽具有一深度，該深度于該承載面至該底面之間延伸，該深度介于300μm至3400μm之間，借此削弱該承載面上微粒所受的靜電力。本申請能夠借由控制掩膜盒底座中的凹槽加工深度或凹槽底面表面與掩膜朝下表面之間的間距，而有效削弱掩膜殘留電壓對于底座表面微粒的影響，進而降低微粒被吸引至掩膜的朝下表面，避免圖案區遭污染。
本發明授權具備抗靜電破壞的掩膜盒及其加工方法在權利要求書中公布了：1.一種具備抗靜電破壞的掩膜盒，其特征在于，包含：一底座，具有一承載面，所述承載面形成有一凹槽，所述凹槽具有一底面；及多個支撐元件，圍繞所述底座的承載面并配置成支撐一掩膜，其中所述凹槽具有一深度，所述深度于所述承載面至所述底面之間延伸，所述深度介于300μm至3400μm之間，借此削弱所述承載面上微粒所受的靜電力，其中所述凹槽具有一環形邊緣，所述環形邊緣圍繞的一區域面積等于或大于所述掩膜的一圖案區域面積。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人家登精密工業股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣新北市；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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