恭喜布魯克·道爾頓有限及兩合公司安德里亞斯·哈澤獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜布魯克·道爾頓有限及兩合公司申請的專利用于分析測量樣品支架上樣品材料的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115472486B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210655429.9，技術領域涉及：H01J49/04；該發明授權用于分析測量樣品支架上樣品材料的方法是由安德里亞斯·哈澤設計研發完成，并于2022-06-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于分析測量樣品支架上樣品材料的方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種用于分析測量沉積在樣品支架表面上的樣品材料的方法，包括：a在表面上定義多個區域，其中一些區域與樣品材料接觸，b1使用解吸束在一個區域上對樣品區段進行采樣以產生解吸分子，這些解吸分子被電離并轉移到分析儀，b2通過改變光束相對于表面的定向設置沿著該區域上從多個預定義的非直線軌跡中選出的非直線軌跡掃過該區域，同時將支架保持在一個位置，c使用樣品支架的空間調節裝置從掃過的區域過渡到下一個要掃過的區域，以及d重復步驟b1，b2和c直到滿足預定的終止條件。本發明還涉及一種用于分析離子的系統，其具有離子發生裝置和控制單元。
本發明授權用于分析測量樣品支架上樣品材料的方法在權利要求書中公布了：1.用于分析測量沉積在樣品支架表面上的樣品材料的方法，所述方法包括以下步驟：a在樣品支架表面上定義多個區域，其中一些區域與樣品材料接觸，b1使用解吸束在一個區域上對樣品區段進行采樣以產生解吸分子，這些解吸分子被電離并轉移到分析儀，b2通過改變解吸束相對于樣品支架表面的定向設置沿著該區域上從多個預定義的非直線軌跡中選出的一個非直線軌跡掃過該區域，同時將樣品支架保持在一個位置，c使用樣品支架的空間調節裝置從一個掃過的區域過渡到下一個要掃過的區域，以及d重復步驟b1，b2和c直到滿足預定的終止條件，其中，步驟b2中的區域可以在解吸束相對于樣品支架表面的第一定向和最后定向之間被掃過，其中在步驟c中的每次過渡之后，下一個區域的掃描分別從解吸束的最后定向開始。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人布魯克·道爾頓有限及兩合公司，其通訊地址為：德國不來梅；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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