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龍圖騰網(wǎng)恭喜北京大學(xué)申請的專利堆疊晶體管的制備方法、堆疊晶體管、器件及設(shè)備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN117995776B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202410057642.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D84/03；該發(fā)明授權(quán)堆疊晶體管的制備方法、堆疊晶體管、器件及設(shè)備是由吳恒;葛延棟;盧浩然;王潤聲;黎明;黃如設(shè)計研發(fā)完成，并于2024-01-15向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本堆疊晶體管的制備方法、堆疊晶體管、器件及設(shè)備在說明書摘要公布了：本申請?zhí)峁┮环N堆疊晶體管的制備方法、堆疊晶體管、器件及設(shè)備，該方法包括：提供一襯底；依次刻蝕頂部襯底、中間犧牲層和底部襯底，以形成有源結(jié)構(gòu)，有源結(jié)構(gòu)包括第一有源結(jié)構(gòu)和第二有源結(jié)構(gòu)，刻蝕后的中間犧牲層位于第一有源結(jié)構(gòu)和第二有源結(jié)構(gòu)之間；形成間隔設(shè)置在第一有源結(jié)構(gòu)表面的第一偽柵結(jié)構(gòu)和包裹第二有源結(jié)構(gòu)的第一淺槽隔離結(jié)構(gòu)；去除刻蝕后的中間犧牲層，以形成第一間隙；在第一間隙中填充絕緣材料，以形成中間介質(zhì)隔離層，中間介質(zhì)隔離層用于隔離第一有源結(jié)構(gòu)和第二有源結(jié)構(gòu)；基于第一有源結(jié)構(gòu)和第二有源結(jié)構(gòu)形成第一晶體管和第二晶體管。通過本申請，可以實現(xiàn)第一有源結(jié)構(gòu)和第二有源結(jié)構(gòu)之間的電學(xué)隔離。

本發(fā)明授權(quán)堆疊晶體管的制備方法、堆疊晶體管、器件及設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種堆疊晶體管的制備方法、其特征在于，所述方法包括：提供一襯底，所述襯底包括依次堆疊設(shè)置的頂部襯底、中間犧牲層和底部襯底；依次刻蝕所述頂部襯底、所述中間犧牲層和所述底部襯底，以形成有源結(jié)構(gòu)，所述有源結(jié)構(gòu)包括第一有源結(jié)構(gòu)和第二有源結(jié)構(gòu)，刻蝕后的中間犧牲層位于所述第一有源結(jié)構(gòu)和所述第二有源結(jié)構(gòu)之間；形成間隔設(shè)置在所述第一有源結(jié)構(gòu)表面的第一偽柵結(jié)構(gòu)和包裹所述第二有源結(jié)構(gòu)的第一淺槽隔離結(jié)構(gòu)；去除所述刻蝕后的中間犧牲層，以形成第一間隙；在所述第一間隙中填充絕緣材料，以形成中間介質(zhì)隔離層，所述中間介質(zhì)隔離層用于隔離所述第一有源結(jié)構(gòu)和所述第二有源結(jié)構(gòu)；基于所述第一有源結(jié)構(gòu)和所述第二有源結(jié)構(gòu)形成第一晶體管和第二晶體管，所述第一晶體管和所述第二晶體管在垂直于溝道的方向上自對準(zhǔn)；所述形成間隔設(shè)置在所述第一有源結(jié)構(gòu)表面的第一偽柵結(jié)構(gòu)和包裹所述第二有源結(jié)構(gòu)的第一淺槽隔離結(jié)構(gòu)，包括：形成包裹所述有源結(jié)構(gòu)的第二淺槽隔離結(jié)構(gòu)；去除所述第二淺槽隔離結(jié)構(gòu)的一部分，以暴露所述第一有源結(jié)構(gòu)和所述刻蝕后的中間犧牲層，并形成所述第一淺槽隔離結(jié)構(gòu)；基于所述第一有源結(jié)構(gòu)，形成所述第一偽柵結(jié)構(gòu)；所述第一偽柵結(jié)構(gòu)和所述第一淺槽隔離結(jié)構(gòu)在所述刻蝕后的中間犧牲層處連接。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人北京大學(xué)，其通訊地址為：100871 北京市海淀區(qū)頤和園路5號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。