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龍圖騰網恭喜浙江森田新材料有限公司申請的專利一種半導體用低濃度BOE蝕刻液制備裝置獲國家實用新型專利權，本實用新型專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN222805019U 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的實用新型授權公告中獲悉：該實用新型的專利申請號/專利號為：202420521472.0，技術領域涉及：B01F27/90；該實用新型一種半導體用低濃度BOE蝕刻液制備裝置是由王航帥;舒宇帆;彭曉暉;潘美華設計研發完成，并于2024-03-18向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種半導體用低濃度BOE蝕刻液制備裝置在說明書摘要公布了：本實用新型公開了一種半導體用低濃度BOE蝕刻液制備裝置，包括制備筒，制備筒上方設有輸送機構，制備筒上方安裝有制備機構，制備筒上方安裝有輔助機構，制備筒下方連接有輸出機構，通過在制備筒設置的輔助機構，便于對半導體用低濃度BOE蝕刻液制備裝置在制備時產生硫化氫、氯化氫等有害氣體進行輔助過濾排出，周圍的環境或工作者受到危害，同時在制備筒設置的輸出機構，不僅制備后的半導體用低濃度BOE蝕刻液進行輔助輸送并冷卻處理，還可以對制備后的半導體用低濃度BOE蝕刻液進行輔助檢測處理，降低半導體用低濃度BOE蝕刻液輸送時能及時發現高濃度的蝕刻液，降低后續制備工藝的影響。

本實用新型一種半導體用低濃度BOE蝕刻液制備裝置在權利要求書中公布了：1.一種半導體用低濃度BOE蝕刻液制備裝置，其特征在于，包括制備筒1，所述制備筒1上方設有輸送機構2，所述制備筒1上方安裝有制備機構3；所述制備筒1上方安裝有輔助機構4，所述輔助機構4包括制備筒1上方貫穿的排出管401，所述排出管401的一端貫穿有輔助盒402，所述輔助盒402下方與制備筒1固定連接，所述輔助盒402內壁安裝有活性炭板403，所述輔助盒402另一側開設有等距分布的出氣孔404；所述制備筒1下方連接有輸出機構5，所述輸出機構5包括制備筒1下方貫穿的輸出管一501，所述輸出管一501的一端連接有檢測盒502，所述檢測盒502上方貫穿有檢測探頭503，所述檢測盒502一側貫穿有輸出泵一504，所述輸出泵一504的輸出端連接有輸出管二505，所述輸出管二505的一端與制備筒1貫穿，所述檢測盒502一側通過連接管二連接有輸出泵二506，所述輸出管一501表面安裝有保溫罩一507，所述保溫罩一507上貫穿有等距離分布的半導體制冷片508。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人浙江森田新材料有限公司，其通訊地址為：321200 浙江省金華市武義縣熟溪街道青年路188號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。