恭喜福建金石能源有限公司林朝暉獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網恭喜福建金石能源有限公司申請的專利適用于PECVD沉積隧穿多晶層工藝的石墨舟飽和方法及應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119433493B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-18發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510046310.5，技術領域涉及：C23C16/34；該發明授權適用于PECVD沉積隧穿多晶層工藝的石墨舟飽和方法及應用是由林朝暉;黃曉狄;張超華;林錦山;楊清霖;俞貴福;陳有鵬設計研發完成，并于2025-01-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本適用于PECVD沉積隧穿多晶層工藝的石墨舟飽和方法及應用在說明書摘要公布了：本發明屬于背接觸電池技術領域，具體涉及一種適用于PECVD沉積隧穿多晶層工藝的石墨舟飽和方法及應用，石墨舟飽和方法包括：在石墨舟表面沉積氮化硅膜，之后開啟輝光進行氫處理，然后對所述氫處理后得到的石墨舟沉積氧化硅膜；其中，氮化硅膜的厚度為50?100nm，氧化硅膜的厚度為375?700nm；且所述氫處理的條件包括：控制通入的氫氣流量為10000?20000sccm，功率為6000?10000W，反應時間為600?1800s。本發明能夠沉積高質量的隧穿多晶層，提升鈍化水平，提高電池的轉換效率，解決了石墨舟飽和對前幾輪鍍膜的影響，提高生產良率，同時本發明石墨舟飽和方法，能夠極大縮短石墨舟的酸洗時間。
本發明授權適用于PECVD沉積隧穿多晶層工藝的石墨舟飽和方法及應用在權利要求書中公布了：1.一種適用于PECVD沉積隧穿多晶層工藝的石墨舟飽和方法，其特征在于，包括：在石墨舟表面沉積氮化硅膜，之后開啟輝光進行氫處理，在氮化硅膜表面形成潔凈層，然后對所述氫處理后得到的石墨舟沉積氧化硅膜；其中，氮化硅膜的厚度為50-100nm，氧化硅膜的厚度為375-700nm；且所述氫處理的條件包括：控制通入的氫氣流量為10000-20000sccm，功率為6000-10000W，反應時間為600-1800s，控制潔凈層的氫含量為1e17cm-3-3e20cm-3。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人福建金石能源有限公司，其通訊地址為：362200 福建省泉州市晉江市經濟開發區(五里園)泉源路17號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號