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恭喜大日本印刷株式會(huì)社辻本淳獲國(guó)家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)恭喜大日本印刷株式會(huì)社申請(qǐng)的專利光學(xué)膜及使用所述光學(xué)膜的偏光板、表面板、圖像顯示面板和圖像顯示裝置、所述光學(xué)膜的制造方法及選定方法、指紋擦拭性的評(píng)價(jià)方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN118033794B

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202410375596.7,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G02B5/02;該發(fā)明授權(quán)光學(xué)膜及使用所述光學(xué)膜的偏光板、表面板、圖像顯示面板和圖像顯示裝置、所述光學(xué)膜的制造方法及選定方法、指紋擦拭性的評(píng)價(jià)方法是由辻本淳;巖田行光;竹井理哲;田中將史;池田圭輔;古井玄設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2023-09-25向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

光學(xué)膜及使用所述光學(xué)膜的偏光板、表面板、圖像顯示面板和圖像顯示裝置、所述光學(xué)膜的制造方法及選定方法、指紋擦拭性的評(píng)價(jià)方法在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明提供光學(xué)膜及使用所述光學(xué)膜的偏光板、表面板、圖像顯示面板和圖像顯示裝置、所述光學(xué)膜的制造方法及選定方法、指紋擦拭性的評(píng)價(jià)方法。所述光學(xué)膜具有第1面、和作為與所述第1面相反一側(cè)的面的第2面,其中,所述光學(xué)膜從所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射層和防眩層,所述第1面具有凹凸形狀,所述第1面的由ISO25178?2:2012所規(guī)定的突出谷部空間體積Vvv為0.005mlm2以上且0.100mlm2以下,并且,所述第1面的由ISO25178?2:2012所規(guī)定的最小自相關(guān)長(zhǎng)度Sal為4.0μm以上且12.0μm以下,落下式接觸角為30.0度以上。

本發(fā)明授權(quán)光學(xué)膜及使用所述光學(xué)膜的偏光板、表面板、圖像顯示面板和圖像顯示裝置、所述光學(xué)膜的制造方法及選定方法、指紋擦拭性的評(píng)價(jià)方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種光學(xué)膜,其具有第1面、和作為與所述第1面相反一側(cè)的面的第2面,其中,所述光學(xué)膜從所述第1面朝向所述第2面依次具有防反射層和防眩層,所述第1面具有凹凸形狀,所述第1面的由ISO25178-2:2012所規(guī)定的突出谷部空間體積Vvv為0.005mlm2以上且0.100mlm2以下,并且,所述第1面的由ISO25178-2:2012所規(guī)定的最小自相關(guān)長(zhǎng)度Sal為4.0μm以上且12.0μm以下,通過(guò)下述的方法測(cè)量的落下式接觸角為30.0度以上,落下式接觸角的測(cè)量如下所述:使表面張力為30mNm的液滴相對(duì)于所述光學(xué)膜的所述第1面從45mm的高度落下,使所述液滴從與所述第1面垂直的方向落下,通過(guò)θ2法測(cè)量著落10秒后的靜態(tài)接觸角。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人大日本印刷株式會(huì)社,其通訊地址為:日本東京都;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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