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龍圖騰網恭喜東莞理工學院申請的專利一種培養厭氧氨氧化菌增殖的裝置及培養方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117401829B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311363822.1，技術領域涉及：C12M1/36；該發明授權一種培養厭氧氨氧化菌增殖的裝置及培養方法是由劉鵬;譚達輝;張文杰設計研發完成，并于2023-10-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種培養厭氧氨氧化菌增殖的裝置及培養方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種培養厭氧氨氧化菌增殖的新型裝置，包括反應器、進水機構、負壓形成機構、低壓電源、陽極、陰極、恒溫機構以及出水機構，反應器由內向外設有反應罐體和水浴槽，水浴槽包裹于反應罐體外側，反應罐體內設有容納腔，進水機構與容納腔的底部相連通，出水機構與容納腔的上部相連通，負壓形成機構安裝于反應器上方，并與容納腔相連通，用于形成容納腔內的負氣壓環境，陽極與陰極對稱安裝于容納腔內，并分別與低壓電源的正負兩極對應電連接，恒溫機構與水浴槽相連通，對水浴槽內的水進行循環保溫。本發明采用特定負壓耦合低電壓結合特定反應罐體的新型裝置，配合培養方法，實現了快速恢復厭氧氨氧化污泥的活性，促進厭氧氨氧化菌增殖。

本發明授權一種培養厭氧氨氧化菌增殖的裝置及培養方法在權利要求書中公布了：1.一種培養厭氧氨氧化菌增殖的培養方法，其特征在于，包括以下步驟：步驟a，菌粒預處理：將待接種的厭氧氨氧化污泥采用PBS緩沖溶液淘洗，待菌粒沉淀后，傾倒出上層溶液，重復三次，洗去厭氧氨氧化顆粒污泥的表面殘留物；步驟b，接種：將淘洗后的厭氧氨氧化污泥接種反應罐體的內部，所述厭氧氨氧化污泥的MLSS值和MLVSS值分別5.12g·L-1和4.74g·L-1，所述厭氧氨氧化污泥的接種體積為所述反應罐體的有效體積的30%；步驟c，配制模擬廢液：以5L的廢水作為基礎廢液，基礎廢液中含有KH2PO4、CaCl2·2H2O、MgSO4·7H2O和KHCO3，分別以1mLL的添加濃度向所述基礎廢液中添加微量元素組合物Ⅰ溶液和微量元素組合物Ⅱ溶液，然后向所述基礎廢液中添加銨鹽和亞硝酸鹽，并用摩爾濃度為1molL的鹽酸溶液調節pH值至7.5~8.0之間，制備得到初始模擬廢液；在增殖培養過程中，初始模擬廢液中氨氮濃度為20mgL、亞硝態氮濃度為26mgL，每天配制新的模擬廢液，每間隔7天使所述模擬廢液中氨氮濃度提高20mgL，所述模擬廢液中亞硝態氮濃度為當時氨氮濃度的1.32倍；當氨氮濃度達到180mgL、亞硝態氮濃度為200mgL時，模擬廢液中氨氮濃度與亞硝態氮濃度不再升高，所述微量元素組合物Ⅰ溶液為EDTA與FeSO4·7H2O的水溶液，其中EDTA與FeSO4·7H2O的濃度均為5gL，所述微量元素組合物Ⅱ溶液為EDTA、H3BO3、MnCl2·4H2O、CuSO4·5H2O、ZnSO4·7H2O、NiCl2·6H2O、Na2MoO4·2H2O和CoCl2·6H2O的水溶液，其中EDTA的濃度為15gL，H3BO3的濃度為0.014gL，MnCl2·4H2O的濃度為0.99gL，CuSO4·5H2O的濃度為0.25gL，ZnSO4·7H2O的濃度為0.43gL，NiCl2·6H2O的濃度為0.19gL，Na2MoO4·2H2O的濃度為0.22gL，CoCl2·6H2O的濃度為0.24gL；步驟d，進水：將配制好的模擬廢液加入進水罐內，并通過進水泵泵入反應罐體內，進水流速為8mlmin，水力停留時間為1天，無需對模擬廢液進行吹氮除氧處理；步驟e，啟動恒溫培養：向恒溫水浴鍋中加入足量的水，打開恒溫水浴鍋，設定水浴溫度為32℃，啟動循環水泵將恒溫水浴鍋中的溫水泵入水浴槽中，水浴槽灌滿后會自動排出，利用恒水浴鍋、循環水泵和水浴槽的水流循環來實現對反應罐體的保溫；步驟f，施加負壓并耦合低壓直流電：打開電源定時器和真空抽氣泵，對反應罐體內部進行抽真空處理，將反應罐體內的氣壓控制在-0.04MPa，并設置電源定時器每隔一小時對真空抽氣泵進行供電，每次供電半小時；啟動低壓電源，設定其電壓強度恒定為1V，通過陽極和陰極兩塊鈦板，向反應罐體內的模擬廢液施加低電壓直流電；第一次進水時，當進水體積達到5L時，啟動回流泵，進行回流，回流比為2；步驟g，出水：啟動出水泵將反應罐體內的上清液排出至尾水收集罐中，出水流速為8mlmin；步驟h，檢測：每天定時對進水水樣及出水水樣進行取樣和檢測，檢測其中氨氮、亞硝態氮和硝態氮的濃度，并以三者之和得到總氮濃度，每天取出水水樣測定溶解氧DO、pH和COD，觀測反應器運行狀況。

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