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恭喜中國科學院上海微系統與信息技術研究所應利良獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜中國科學院上海微系統與信息技術研究所申請的專利具有大電感層的超導電路及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114188472B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111492420.2,技術領域涉及:H10N60/01;該發明授權具有大電感層的超導電路及其制備方法是由應利良;張雪;何桂香;任潔;彭煒設計研發完成,并于2021-12-08向國家知識產權局提交的專利申請。

具有大電感層的超導電路及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明提供一種具有大電感層的超導電路及其制備方法,該超導電路包括:襯底;形成于襯底上的旁路電阻;形成于旁路電阻上的約瑟夫森結;形成于約瑟夫森結上的大電感層;形成于大電感層上的配線層;絕緣材料層,分別將旁路電阻、約瑟夫森結、大電感層及配線層電學隔離。該超導電路利用原配線層的中小電感設計中,再設計加入一層專門的大電感層應用于需要大電感的超導電路中,有效擴大了超導電路中的電感大小范圍,拓寬了超導電路的應用場景,提高超導電路的集成度;另外,特定材料的大電感層同時還可以用作大電阻層,從而可進一步提升超導電路的集成度。

本發明授權具有大電感層的超導電路及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種具有大電感層的超導電路的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:1)提供襯底,并于所述襯底上形成旁路電阻;2)于上述得到的結構表面形成具有第一開孔的圖形化的第一絕緣材料層,所述第一開孔顯露所述旁路電阻;3)于上述得到的結構表面依次形成第一超導材料層、勢壘材料層、第二超導材料層的三層薄膜結構;4)從上而下分別用不同的圖案刻蝕所述三層薄膜結構以形成約瑟夫森結;5)于上述得到的結構表面形成圖形化的第二絕緣材料層,并于所述第二絕緣材料層上形成大電感層;6)于上述得到的結構表面形成具有多個第二開孔的圖形化的第三絕緣材料層,多個所述第二開孔分別顯露所述大電感層及所述約瑟夫森結的上表面;7)于上述得到的結構表面形成第三超導材料層,并刻蝕所述第三超導材料層形成配線層。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院上海微系統與信息技術研究所,其通訊地址為:200050 上海市長寧區長寧路865號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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