恭喜蘇州大學(xué)孫倜獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜蘇州大學(xué)申請(qǐng)的專利一種Micro-LED陣列及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN119208491B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-25發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202411720429.8,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10H20/84;該發(fā)明授權(quán)一種Micro-LED陣列及其制備方法是由孫倜;張同友;許峰;曹冰設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2024-11-28向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種Micro-LED陣列及其制備方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明屬于Micro?LED微納光學(xué)光場調(diào)控及Micro?LED制備技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種Micro?LED陣列及其制備方法;包括Micro?LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)陣列、第二N型GaN層和一維光子晶體層;第二N型GaN層連續(xù)設(shè)置在Micro?LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)陣列上表面所在平面;一維光子晶體層設(shè)置在第二N型GaN層上表面,包括層疊設(shè)置的折射率不同的第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層。本申請(qǐng)利用第二N型GaN層提供平整表面,生長高質(zhì)量的一維光子晶體層,利用一維光子晶體層高效透過小角度入射光線并強(qiáng)反射大角度入射的光線,有效減小了陣列結(jié)構(gòu)間的光串?dāng)_,極大提升了Micro?LED的發(fā)光準(zhǔn)直性。
本發(fā)明授權(quán)一種Micro-LED陣列及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種Micro-LED陣列,其特征在于,包括:Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)陣列,包括呈陣列排布的多個(gè)Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu),每個(gè)Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)包括自上至下依次層疊設(shè)置的第一N型GaN層、量子阱發(fā)光層、P型GaN層和ITO層;第二N型GaN層,連續(xù)設(shè)置在Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)陣列上表面所在平面,以使多個(gè)Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)共用所述第二N型GaN層;所述第二N型GaN層的厚度為0.1μm~1.5μm;一維光子晶體層,連續(xù)設(shè)置在所述第二N型GaN層遠(yuǎn)離所述Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)陣列一側(cè)表面,包括至少一個(gè)光子晶體結(jié)構(gòu),所述光子晶體結(jié)構(gòu)包括層疊設(shè)置的折射率不同的第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層;N電極,與所述第二N型GaN層相接觸;其中,Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)為倒圓臺(tái),其靠近第二N型GaN層一側(cè)表面的直徑小于相鄰Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)之間的橫向距離和縱向距離;或,Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)為倒四棱臺(tái),其靠近第二N型GaN層一側(cè)表面的長度小于相鄰Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)之間的橫向距離,其靠近第二N型GaN層一側(cè)表面的寬度小于相鄰Micro-LED臺(tái)面結(jié)構(gòu)之間的縱向距離。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人蘇州大學(xué),其通訊地址為:215000 江蘇省蘇州市吳江區(qū)久泳西路1號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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