恭喜應用材料公司沙西亞穆提·戈文達薩米獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜應用材料公司申請的專利掩模框架支撐元件、邊緣排除掩模、掩模框架元件、基板支撐件、基板處理設備獲國家實用新型專利權，本實用新型專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN222648077U 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發(fā)布的實用新型授權公告中獲悉：該實用新型的專利申請?zhí)?專利號為：202190001062.8，技術領域涉及：C23C14/04；該實用新型掩模框架支撐元件、邊緣排除掩模、掩模框架元件、基板支撐件、基板處理設備是由沙西亞穆提·戈文達薩米;馬庫斯·哈尼卡;布里希·拉賈;沃爾夫岡·克萊因設計研發(fā)完成，并于2021-09-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本掩模框架支撐元件、邊緣排除掩模、掩模框架元件、基板支撐件、基板處理設備在說明書摘要公布了：描述一種掩模框架支撐元件、一種邊緣排除掩模、一種掩模框架元件、一種基板支撐件和一種基板處理設備。用于掩模框架支撐件的掩模框架支撐元件沿被配置為沿基板的側邊緣延伸的第一方向包括：突出區(qū)段，所述突出區(qū)段被配置為提供與所述基板的接觸；和凹陷區(qū)段，所述凹陷區(qū)段被配置為將掩模框架的部分耦接到所述掩模框架支撐件。掩模框架元件包括主體，所述主體具有掩模邊緣，所述掩模邊緣沿被配置為沿基板的側邊緣延伸的第一方向延伸。所述主體具有突出部，所述突出部向下延伸并提供所述掩模邊緣。所述突出部包括：第一區(qū)段，所述第一區(qū)段具有第一寬度，所述第一寬度從所述掩模邊緣延伸遠離所述掩模邊緣；和第二區(qū)段，所述第二區(qū)段具有比所述第一寬度更大的第二寬度，所述第二寬度從所述掩模邊緣遠離所述掩模邊緣延伸。
本實用新型掩模框架支撐元件、邊緣排除掩模、掩模框架元件、基板支撐件、基板處理設備在權利要求書中公布了：1.一種用于掩模框架支撐件的掩模框架支撐元件，其特征在于沿被配置為沿基板的側邊緣延伸的第一方向包括：突出區(qū)段，所述突出區(qū)段被配置為提供與所述基板的接觸；和凹陷區(qū)段，所述凹陷區(qū)段被配置為將掩模框架的部分耦接到所述掩模框架支撐件。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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