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龍圖騰網恭喜中國科學院微電子研究所申請的專利二次諧波表征光學系統及基于二次諧波表征的檢測裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114577727B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210249155.3，技術領域涉及：G01N21/01；該發明授權二次諧波表征光學系統及基于二次諧波表征的檢測裝置是由王然;趙泓達;王磊;張學文;李博;張喆;張昆鵬;岳嵩;張紫辰設計研發完成，并于2022-03-14向國家知識產權局提交的專利申請。

本二次諧波表征光學系統及基于二次諧波表征的檢測裝置在說明書摘要公布了：本發明提供了一種二次諧波表征光學系統及基于二次諧波表征的檢測裝置，該二次諧波表征光學系統通過在起偏器與第一物鏡之間的光路上增加光束整形模塊，將高斯光束的偏振基頻光整形為平頂光束的偏振基頻光，再經過第一物鏡聚焦為符合測試要求的基頻光，并將基頻光入射到待檢測樣品。與現有技術中入射到晶圓表面的基頻光為高斯光束的方式相比，本申請使入射到待檢測樣品表面的基頻光的光斑內部光強均勻，從而使光斑內部可以均勻的產生二次諧波信號，進而提高二次諧波表征待檢測樣品缺陷的精度。

本發明授權二次諧波表征光學系統及基于二次諧波表征的檢測裝置在權利要求書中公布了：1.一種二次諧波表征光學系統，其特征在于，包括：支撐結構；設置在所述支撐結構上且用于將待檢測樣品保持在其上的樣品臺；用于向所述待檢測樣品入射基頻光的入射光路系統；所述基頻光入射到所述待檢測樣品之后能夠產生攜帶樣品缺陷信息的二次諧波信號，且所述二次諧波信號沿著所述待檢測樣品表面反射出的光束方向射出；包含有探測器的出射光路系統，所述出射光路系統用于將所述二次諧波信號收集于所述探測器內；其中，所述入射光路系統包括：用于發出激光束的激光器；與所述激光器位置相對的起偏器，所述起偏器用于將所述激光束起偏為具有設定偏振態的偏振基頻光，所述偏振基頻光為高斯光束；與所述起偏器位置相對的光束整形模塊，用于將所述偏振基頻光整形為平頂光束；與所述光束整形模塊位置相對的第一物鏡，所述第一物鏡用于將所述平頂光束聚焦為符合測試要求的所述基頻光，并將所述基頻光入射到所述待檢測樣品上；所述光束整形模塊還用于將所述偏振基頻光的光斑整形為平行四邊形光斑；與樣品臺通信連接的控制模塊，所述控制模塊用于控制樣品臺帶動待檢測樣品按照預設掃描軌跡運動，預設掃描軌跡由多條平行的掃描線組成，每根掃描線均平行于平行四邊形光斑中的兩條平行的光斑邊緣線，且相鄰兩根掃描線之間的間距等于平行四邊形光斑的上述兩條平行的光斑邊緣線的間距；且每根掃描線均有多個掃描點位組成，同一根掃描線上相鄰的兩個掃描點位之間的間距等于平行四邊形光斑上另外的兩條平行的光斑邊緣線的間距；所述支撐結構包括一個圓弧導軌，所述樣品臺位于所述圓弧導軌的中心處；所述樣品臺能夠相對所述圓弧導軌在三個相互垂直的運動軸上運動，以使所述基頻光掃描所述待檢測樣品的表面；所述圓弧導軌上滑動裝配有入射臂和出射臂，所述激光器、起偏器、光束整形模塊和第一物鏡均設置在所述入射臂上，所述出射光路系統設置在所述出射臂上。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院微電子研究所，其通訊地址為：100029 北京市朝陽區北土城西路3號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。