應用材料公司史蒂文·C·洪獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉應用材料公司申請的專利柵界面工程的新方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114746982B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-07-04發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080084121.2，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權柵界面工程的新方法是由史蒂文·C·洪設計研發完成，并于2020-10-02向國家知識產權局提交的專利申請。
本柵界面工程的新方法在說明書摘要公布了：可以執行處理方法以產生可以包括高k介電材料的半導體結構。該方法可以包括從基板的表面移除原生氧化物。所述方法可以包括將一氧化二氮傳遞至基板并熱退火表面以形成含氧化物的界面。該方法可以包括將含氮前驅物或含氧前驅物傳遞到被容納在半導體處理腔室中的基板。該方法可以包括利用含氮前驅物或含氧前驅物在基板的暴露表面上形成反應性配體。該方法還可包括形成覆蓋基板的高k介電材料。
本發明授權柵界面工程的新方法在權利要求書中公布了：1.一種形成半導體結構的方法，所述方法包括下列步驟： 從基板的表面移除原生氧化物； 將一氧化二氮傳遞至所述基板并熱退火所述表面以形成含氧化物界面； 將含氮前驅物或含氧前驅物傳遞至所述基板； 在將所述基板維持在約500℃至約700℃之間的溫度的同時利用所述含氮前驅物或所述含氧前驅物在所述含氧化物界面上引入反應性配體，其中引入了所述反應性配體的所述含氧化物界面是包括羥基或胺基封端的表面；和 在引入了所述反應性配體之后，形成覆蓋所述含氧化物界面的高k介電材料。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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