恭喜格科微電子(上海)有限公司趙立新獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜格科微電子(上海)有限公司申請的專利光學(xué)指紋器件的制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN112216707B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-27發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:201910617890.3,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10F39/18;該發(fā)明授權(quán)光學(xué)指紋器件的制造方法是由趙立新;杜柯;夏歡設(shè)計研發(fā)完成,并于2019-07-10向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本光學(xué)指紋器件的制造方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明提供一種光學(xué)指紋器件的制造方法,所述光學(xué)指紋器件包括:圖像傳感器像素陣列部分和光學(xué)部件部分,所述光學(xué)部件部分至少包括:多個微透鏡,微透鏡和圖像傳感器像素陣列之間的透光層,透光層中間的光隔離結(jié)構(gòu),所述透光層中間的光隔離結(jié)構(gòu)至少包括透光材料側(cè)壁上的不透光的吸光層。發(fā)明的光隔離結(jié)構(gòu)與單層多層遮擋層相比,對雜散光的抑制更好,并利用比較容易實(shí)現(xiàn)的透光臺階加金屬層或和黑色吸收層實(shí)現(xiàn)隔光,易于制造,成本低。
本發(fā)明授權(quán)光學(xué)指紋器件的制造方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種光學(xué)指紋器件的制造方法,所述光學(xué)指紋器件包括:圖像傳感器像素陣列部分和光學(xué)部件部分,所述光學(xué)部件部分至少包括:多個第一微透鏡和第二微透鏡,所述第一微透鏡和圖像傳感器像素陣列之間的透光層,透光層中間的光隔離結(jié)構(gòu),其特征在于, 先形成所述光隔離結(jié)構(gòu),所述光隔離結(jié)構(gòu)包括由透光材料形成的朝向所述第一微透鏡的凸起結(jié)構(gòu)和覆蓋在該凸起結(jié)構(gòu)上的不透光的吸光層,再在所述光隔離結(jié)構(gòu)周圍填充透光材料以形成所述透光層; 在透光層的一面形成多個所述第一微透鏡以及位于多個所述第一微透鏡之間的第一隔光墻;在透光層的另一面形成多個所述第二微透鏡以及位于多個所述第二微透鏡之間的第二隔光墻,從而形成光學(xué)部件部分;所述第一隔光墻、第二隔光墻包括由透光材料形成凸起結(jié)構(gòu)和覆蓋在該凸起結(jié)構(gòu)上的不透光的吸光層; 將光學(xué)部件部分粘合至圖像傳感器晶圓,形成所述光學(xué)指紋器件。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人格科微電子(上海)有限公司,其通訊地址為:201203 上海市浦東新區(qū)張江盛夏路560號2號樓11層;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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