買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！

龍圖騰網恭喜福建省晉華集成電路有限公司申請的專利存儲器及其形成方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111640750B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-20發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201911171490.0，技術領域涉及：H10B12/00；該發明授權存儲器及其形成方法是由賴惠先;林昭維;朱家儀;張欽福設計研發完成，并于2019-11-21向國家知識產權局提交的專利申請。

本存儲器及其形成方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種存儲器及其形成方法。利用位線和絕緣線界定出第一分格陣列，并在形成位線和絕緣線之后，利用隔離層進一步界定出與第一分格陣列對應的第二分格陣列，從而可以結合第一分格陣列和第二分格陣列界定出節點接觸窗，進而可以自對準的填充節點接觸結構在節點接觸窗中。因此，本發明提供的存儲器及其形成方法，在制備節點接觸結構時，而并不需要對用于構成節點接觸結構的導電材料執行圖形化工藝，如此，即可以省略對硬度較大的導電材料執行圖形化過程中的刻蝕工藝，有利于提高所形成的節點接觸結構的圖形精度，并且還可以避免產生聚合物，防止節點接觸結構上附著有聚合物。

本發明授權存儲器及其形成方法在權利要求書中公布了：1.一種存儲器，其特征在于，包括： 襯底，所述襯底中形成有至少一有源區，所述有源區中形成有第一源漏區和第二源漏區； 多條位線和多條絕緣線，形成在所述襯底上，并且所述位線和所述絕緣線相交以界定出第一分格陣列； 隔離層，形成在所述位線和所述絕緣線上，所述隔離層具有第二分格陣列圖形，所述隔離層的所述第二分格陣列的圖形與所述第一分格陣列的圖形位置對應，并且所述第二分格陣列中的各個第二分格與所述第一分格陣列中的各個第一分格上下連通，以構成節點接觸窗；以及， 節點接觸結構，填充在所述節點接觸窗中，并且所述節點接觸結構的頂表面高于所述位線和所述絕緣線的頂表面； 所述隔離層包括：形成在所述位線的頂表面上的第一隔離部，以及形成在所述絕緣線的頂表面上的第二隔離部；其中，所述第一隔離部在垂直于位線的延伸方向上的寬度尺寸小于所述位線的寬度尺寸，以及所述第二隔離部在垂直于絕緣線的延伸方向上的寬度尺寸小于所述絕緣線的寬度尺寸。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人福建省晉華集成電路有限公司，其通訊地址為：362200 福建省泉州市晉江市集成電路科學園聯華大道88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。