恭喜華虹半導(dǎo)體(無錫)有限公司丁浩獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜華虹半導(dǎo)體(無錫)有限公司申請的專利閃存器件的制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114038853B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-20發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111344997.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10B41/30；該發(fā)明授權(quán)閃存器件的制造方法是由丁浩;熊偉;陳華倫設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-11-15向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本閃存器件的制造方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種閃存器件的制造方法，包括以下步驟：硅襯底上方制作形成浮柵多晶硅、控制柵多晶硅；在控制柵多晶硅的上方形成第一氧化層；制作字線多晶硅和氮化硅本發(fā)明在制作控制柵多晶硅后在CG表面氧化一層氧化層，該氧化層作為阻擋層保護CG不被H3PO4腐蝕，從而避免浮柵多晶硅殘留，以解決閃存期間的單比特?zé)o法擦寫的問題。
本發(fā)明授權(quán)閃存器件的制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種閃存器件的制造方法，其特征在于，包括以下步驟： 硅襯底上方制作形成浮柵多晶硅、控制柵多晶硅； 在所述控制柵多晶硅的上方形成第一氧化層； 制作字線多晶硅和氮化硅； 去除存儲單元區(qū)域的所述氮化硅。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人華虹半導(dǎo)體(無錫)有限公司，其通訊地址為：214028 江蘇省無錫市新吳區(qū)新洲路30號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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