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龍圖騰網恭喜得克薩斯大學體系董事會申請的專利用于高性能電子顯微鏡的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114341926B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080062604.2，技術領域涉及：G06T5/80；該發明授權用于高性能電子顯微鏡的方法是由Z·奧特維諾斯基;R·布羅姆伯格;D·伯雷克設計研發完成，并于2020-08-10向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于高性能電子顯微鏡的方法在說明書摘要公布了：提供了用于校正電子顯微鏡圖像包括cryo?EM圖像中的一個或多個圖像像差的方法。該方法包括獲得具有一個或多個已知特性的內部參考網格樣本的多個電子顯微鏡EM圖像，所述多個電子顯微鏡圖像是針對多個光學條件和針對多個協調的波束?圖像移位而獲得的。除了其它特征之外，該方法還尤其可以包括確定像差校正函數，該像差校正函數使用內核規范相關分析KCCA來預測被成像的區域中的每個點的像差。

本發明授權用于高性能電子顯微鏡的方法在權利要求書中公布了：1.一種用于校正電子顯微鏡EM圖像中的一個或多個圖像像差的方法，其特征在于，該方法包括： 獲得內部參考網格樣本的多個EM圖像，所述多個EM圖像是使用電子顯微鏡關于多個光學條件且多個協調的波束-圖像移位捕獲的； 通過校正所述多個EM圖像的樣本漂移以產生EM顯微照片； 通過使用一個或多個去卷積系數對變換的圖像去卷積來生成去卷積的圖像，所述變換的圖像是通過向所述EM顯微照片應用傅里葉變換來生成； 通過對去卷積的圖像應用高通濾波器，以產生經濾波的去卷積的圖像； 通過計算所述經濾波的去卷積的圖像的逆傅里葉變換以產生校正了像差的EM顯微照片； 確定校正了像差的EM顯微照片的強度分布； 計算強度分布的矩；以及 使用一個或多個去卷積系數執行迭代優化過程，直到基于矩的最大值確定最優去卷積系數，所述迭代優化過程包括從與所述迭代優化過程的前一迭代不同的去卷積系數值范圍中選擇一個或多個去卷積系數。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人得克薩斯大學體系董事會，其通訊地址為：美國得克薩斯；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。