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龍圖騰網(wǎng)恭喜枘熠集成電路(上海)有限公司申請的專利一種二次離子質(zhì)譜分析曲線的比較方法及裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN109060860B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-17發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201811071009.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01N23/2258；該發(fā)明授權(quán)一種二次離子質(zhì)譜分析曲線的比較方法及裝置是由請求不公布姓名設(shè)計研發(fā)完成，并于2018-09-13向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

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本發(fā)明授權(quán)一種二次離子質(zhì)譜分析曲線的比較方法及裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種二次離子質(zhì)譜分析曲線的比較方法，用于診斷離子注入是否存在異常，其特征在于，包括以下步驟： S1，微調(diào)機臺； S2，第一決策階段，機臺進行離子注入劑量偏差自校驗，若離子注入劑量偏差小于1％，則轉(zhuǎn)到步驟S3，若離子注入劑量差大于等于1％，則轉(zhuǎn)到步驟S1； S3，進行異常點檢測與剔除； S4，進行曲線平滑處理并進行模型診斷； S5，計算相關(guān)的非參數(shù)量化指標并按照該指標進行二次離子質(zhì)譜分析曲線的比較； S6，若所述指標滿足閾值，則該離子注入正常；若不滿足閾值，則該離子注入異常，轉(zhuǎn)到步驟S1； 所述非參數(shù)量化指標為“差異百分比D”，其計算公式為, 其中，GAx和GBx為給定的兩個SDP曲線平滑函數(shù)，a代表淺區(qū)深度值，b 代表深區(qū)深度值； 或， 所述非參數(shù)量化指標為柯爾莫可洛夫-斯米洛夫K-S統(tǒng)計量DKS，其公式為DKS＝max|Fx-Gx|,其中，F(xiàn)x和Gx代表兩個SDP曲線的經(jīng)驗累積分布函數(shù)。

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