恭喜柯尼卡美能達株式會社佐藤洋平獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜柯尼卡美能達株式會社申請的專利噴墨頭、噴墨頭的制造方法以及噴墨記錄裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116096579B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080103807.1,技術領域涉及:B41J2/14;該發明授權噴墨頭、噴墨頭的制造方法以及噴墨記錄裝置是由佐藤洋平;下村明久;吉田仁紀;香西洋明設計研發完成,并于2020-09-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本噴墨頭、噴墨頭的制造方法以及噴墨記錄裝置在說明書摘要公布了:一種噴墨頭,該噴墨頭具有:硅噴嘴基板11,該硅噴嘴基板11具有墨的流路面S1和與流路面S1相向的墨的射出面S2,并具有從流路面S1貫通至射出面S2的噴嘴111;流路基板12,該流路基板12與硅噴嘴基板11的流路面S1接合,并具備墨的流路和具有流路的形成面的基板主體12a;以及疏液膜14,該疏液膜14設置于硅噴嘴基板11的射出面S2,其中,流路基板12具有:貫通流路125,該貫通流路125以面向噴嘴111的方式貫通基板主體12a;以及n個單獨循環流路121,該n個單獨循環流路121與貫通流路125連通并朝向遠離噴嘴111的方向延伸,并且具有在從流路基板12的與硅噴嘴基板11接合的面的相反側觀察的俯視時與基板主體12a重疊的部分,各個單獨循環流路121與噴嘴111的位置關系具有特定的關系。
本發明授權噴墨頭、噴墨頭的制造方法以及噴墨記錄裝置在權利要求書中公布了:1.一種噴墨頭,所述噴墨頭具有: 硅噴嘴基板,所述硅噴嘴基板具有墨的流路面和與所述流路面相向的墨的射出面,并具有從所述流路面貫通至所述射出面的噴嘴; 流路基板,所述流路基板與所述硅噴嘴基板的所述流路面接合,并具備墨的流路和形成所述流路的基板主體;以及 疏液膜,所述疏液膜設置于所述硅噴嘴基板的所述射出面, 其中, 所述流路基板具有貫通流路和n個單獨循環流路作為所述墨的流路,所述貫通流路以面向所述噴嘴的方式貫通所述基板主體,所述n個單獨循環流路與所述貫通流路連通并朝向遠離所述噴嘴的方向延伸,并且所述n個單獨循環流路具有在從所述流路基板的與所述硅噴嘴基板接合的面的相反側觀察的俯視時與所述基板主體重疊的部分, 各個所述單獨循環流路與所述噴嘴的位置關系滿足下述式1: L×tanφH1式1 式1中的各符號在以包含所述噴嘴的中心和所述單獨循環流路的方式用與所述硅噴嘴基板的所述流路面正交的面剖開所述硅噴嘴基板和所述流路基板而得到的截面中,表示以下的意思: φ:將在所述射出面上遠離所述單獨循環流路的一側的第一噴嘴端部和在所述流路面上靠近所述單獨循環流路的一側的第二噴嘴端部連結的直線與所述射出面所成的角的角度 L:從包含所述第一噴嘴端部且與所述射出面正交的直線到所述基板主體中的所述貫通流路的形成面與所述單獨循環流路的形成面的交點中的距所述流路面最遠的交點的距離 H1:從所述射出面到所述基板主體中的所述貫通流路的形成面與所述單獨循環流路的形成面的交點中的距所述流路面最遠的交點的距離。
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