恭喜東京毅力科創株式會社小原隆憲獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜東京毅力科創株式會社申請的專利基板處理裝置和基板處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112825303B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011258884.2，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權基板處理裝置和基板處理方法是由小原隆憲設計研發完成，并于2020-11-12向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板處理裝置和基板處理方法在說明書摘要公布了：本發明涉及基板處理裝置和基板處理方法。能夠減少基板處理裝置的動作且縮短基板處理所花費的時間。基板處理裝置具備：保持部，保持基板；液供給部，對由保持部保持的狀態下的基板的主表面按順序供給第1處理液和不同于第1處理液的第2處理液；摩擦體，在第1處理液和第2處理液的供給過程中，與基板的主表面接觸并摩擦主表面；移動部，使摩擦體在基板的主表面處的接觸位置在與基板的主表面平行的方向且互相交叉的第1軸方向和第2軸方向上移動；以及控制部，控制液供給部和移動部，以在第1處理液的供給過程中，使摩擦體的接觸位置向第1軸方向的一方向移動，在接下來的第2處理液的供給過程中，使摩擦體的接觸位置向第1軸方向的另一方向移動。
本發明授權基板處理裝置和基板處理方法在權利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，其中， 該基板處理裝置具備： 保持部，其用于保持基板； 液供給部，其對由所述保持部保持的狀態下的所述基板的主表面，按順序供給第1處理液和不同于所述第1處理液的第2處理液； 摩擦體，其在所述第1處理液和所述第2處理液的供給過程中，與所述基板的所述主表面接觸，并摩擦所述主表面； 移動部，其使所述摩擦體在所述基板的所述主表面處的接觸位置在與所述基板的所述主表面平行的方向且是互相交叉的第1軸方向和第2軸方向上移動；以及 控制部，其控制所述液供給部和所述移動部，以在所述第1處理液的供給過程中，使所述摩擦體的所述接觸位置向所述第1軸方向的一方向移動，在接下來的所述第2處理液的供給過程中，使所述摩擦體的所述接觸位置向所述第1軸方向的另一方向移動。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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