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龍圖騰網(wǎng)恭喜上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司申請的專利光刻機(jī)掃描系統(tǒng)及光刻機(jī)掃描系統(tǒng)遠(yuǎn)心異常校準(zhǔn)方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114647154B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-17發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202011533017.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)光刻機(jī)掃描系統(tǒng)及光刻機(jī)掃描系統(tǒng)遠(yuǎn)心異常校準(zhǔn)方法是由孫文鳳設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-12-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本光刻機(jī)掃描系統(tǒng)及光刻機(jī)掃描系統(tǒng)遠(yuǎn)心異常校準(zhǔn)方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種光刻機(jī)掃描系統(tǒng)及刻機(jī)掃描系統(tǒng)遠(yuǎn)心異常校準(zhǔn)方法，所述光刻機(jī)掃描系統(tǒng)通過在第一光源組件和可變狹縫組件之間設(shè)置用于發(fā)出第二出射光的第二光源組件，并在第二光源組件發(fā)出第二出射光，且測量單元被第二出射光照射到時，測量第二出射光照射到第一測量組件上形成的光斑的中心位置，以計(jì)算得到照明組件的遠(yuǎn)心。如此一來，通過在光刻機(jī)掃描系統(tǒng)中引入用于測量遠(yuǎn)心的第二光源組件，以避免使用用于光刻的第一出射光進(jìn)行照明組件遠(yuǎn)心測量而導(dǎo)致的干擾問題。同時，可直接在光刻機(jī)掃描系統(tǒng)中完成遠(yuǎn)心的測量，以提升遠(yuǎn)心的測量和校準(zhǔn)效率。

本發(fā)明授權(quán)光刻機(jī)掃描系統(tǒng)及光刻機(jī)掃描系統(tǒng)遠(yuǎn)心異常校準(zhǔn)方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光刻機(jī)掃描系統(tǒng)，其特征在于，包括依次設(shè)置的第一光源組件、具有可變狹縫組件的照明組件、掩模版、物鏡以及工件臺，其中，所述第一光源組件發(fā)出用于光刻的第一出射光； 第二光源組件，所述第二光源組件共軸設(shè)置于所述第一光源組件和所述可變狹縫組件之間，并用于發(fā)出第二出射光，其中，所述第二出射光的波長與所述第一出射光的波長不同； 第一測量組件，所述第一測量組件位于所述照明組件和所述掩模版之間，并位于所述第二出射光的光路上，且沿所述第二出射光的光軸可移動設(shè)置，用于測量所述第二出射光照射在所述第一測量組件上形成的光斑的中心位置，以得到所述照明組件的遠(yuǎn)心。

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