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龍圖騰網恭喜廣西師范大學;南寧師范大學申請的專利一種基于石墨烯實現雙通道高效光吸收的光學結構獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111029420B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-10發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201911278863.4，技術領域涉及：H10F77/40；該發明授權一種基于石墨烯實現雙通道高效光吸收的光學結構是由李傳起;李佳欽;陸葉;陳東;劉志強;翟莉敏;覃波;李沼云設計研發完成，并于2019-12-13向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于石墨烯實現雙通道高效光吸收的光學結構在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于石墨烯實現雙通道高效光吸收的光學結構，包括金屬光柵、介質層和石墨烯納米條帶，所述金屬光柵具有凹槽，所述介質層內填充有介質，所述介質層位于所述凹槽內，所述介質層與所述金屬光柵之間具有第一空腔和第二空腔，所述第一空腔和所述第二空腔以所述介質層為中心相對設置，所述石墨烯納米條帶的數量為兩個，分別位于所述第一空腔和所述第二空腔上。通過在金屬光柵的凹槽中部分填充介質，使鋪設在上方的石墨烯納米條帶分別與金屬光柵和第一空腔和第二空腔相互作用，共同激發石墨烯表面等離子體共振，實現雙通道高效光吸收增強。

本發明授權一種基于石墨烯實現雙通道高效光吸收的光學結構在權利要求書中公布了：1.一種基于石墨烯實現雙通道高效光吸收的光學結構，其特征在于，包括金屬光柵、介質層和石墨烯納米條帶，所述金屬光柵具有凹槽，所述介質層內填充有介質，所述介質層位于所述凹槽內，所述介質層與所述金屬光柵之間具有第一空腔和第二空腔，所述第一空腔和所述第二空腔以所述介質層為中心相對設置，所述石墨烯納米條帶的數量為兩個，分別位于所述第一空腔和所述第二空腔上；所述金屬光柵陣列周期為200nm，石墨烯費米能級為0.5eV；所述介質層寬度為65nm~85nm；所述石墨烯納米條帶的寬度為20nm~35nm；在加入所述石墨烯納米條帶之后，所述金屬光柵和空腔分別與所述石墨烯納米條帶相互作用，共同激發石墨烯表面等離子體共振，增強石墨烯的場局域效應；在740~820nm范圍內達到80%以上的光吸收，在1450~1715nm范圍內達到90%以上的光吸收，最大光吸收效率達到近100%，實現可見光-近紅外波段的雙通道高效光吸收增強。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人廣西師范大學;南寧師范大學，其通訊地址為：541004 廣西壯族自治區桂林市七星區育才路15號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。